[發明專利]一種光固化材料及其應用

有效

• 申請號: 201610149725.6
• 申請日: 2016-03-16
• 公開（公告）號: CN105601830B
• 公開（公告）日: 2018-10-02
• 發明（設計）人: 何流;裴學良;季鵬;苗玉龍;楊建行;黃慶
• 申請（專利權）人: 中國科學院寧波材料技術與工程研究所
• 主分類號: C08F283/00
• 分類號: C08F283/00;C08F222/20;C08G77/60;C09D183/16;C09D7/61;C09D7/65;C04B35/565;C04B35/622
• 代理公司: 杭州天勤知識產權代理有限公司 33224
• 代理人: 劉誠午

1.一種光固化材料用于光固化3D打印的應用，所述光固化材料，包括如下組分：

所述的超支化聚碳硅烷是含不飽和雙鍵的超支化聚碳硅烷，超支化聚碳硅烷的數均分子量介于300-15000；所述的不飽和雙鍵為丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基或烯丙基，超支化聚碳硅烷中不飽和雙鍵的含量為1-30wt％。

2.根據權利要求1所述的光固化材料用于光固化3D打印的應用，其特征在于，所述的光引發劑選自紫外光引發劑或可見光引發劑；所述的紫外光引發劑選自1-羥基環己基苯基甲酮、二苯甲酮、二苯乙醇酮中的一種或兩種；所述的可見光引發劑選自雙(五氟苯基)鈦茂或雙[2,6-二氟-3-(1H-吡咯基-1)苯基]鈦茂。

3.根據權利要求1所述的光固化材料用于光固化3D打印的應用，其特征在于，所述的活性稀釋劑選自含有丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、乙烯基或乙烯氧基的單體。

4.根據權利要求3所述的光固化材料用于光固化3D打印的應用，其特征在于，所述的活性稀釋劑選自二縮三丙二醇二丙烯酸酯或二乙氧基雙酚A二丙烯酸酯。

5.根據權利要求1所述的光固化材料用于光固化3D打印的應用，其特征在于，所述的添加劑為助引發劑、消泡劑、抗氧化劑、流平劑、分散劑、消光劑、穩定劑、填料、顏料、燒結助劑中的一種或多種。

6.根據權利要求5所述的光固化材料用于光固化3D打印的應用，其特征在于，所述的添加劑為助引發劑CN373、消泡劑聚二甲基硅氧烷或碳化硅粉末填料。

7.一種光固化材料用于制備SiC構件的應用，利用3D打印機將光固化材料噴射到支撐材料上，在可見光或紫外光作用下固化成形，經逐層堆積后形成三維立體構件，并將三維立體構件在無氧條件下，1000～2000℃保溫20～360min，得到SiC構件；

所述光固化材料，包括如下組分：

所述的超支化聚碳硅烷是含不飽和雙鍵的超支化聚碳硅烷，超支化聚碳硅烷的數均分子量介于300-15000；所述的不飽和雙鍵為丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基或烯丙基，超支化聚碳硅烷中不飽和雙鍵的含量為1-30wt％。