[發明專利]曝光裝置及曝光方法

有效

• 申請號: 201610149660.5
• 申請日: 2013-03-26
• 公開（公告）號: CN105652609B
• 公開（公告）日: 2018-12-04
• 發明（設計）人: 熊澤雅人
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/24
• 分類號: G03F7/24;G03F7/20
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳偉;王娟娟

1.一種曝光裝置，使沿著圓筒面配置的反射性的光罩圖案的像在感應性襯底上投影曝光，所述圓筒面是圍繞規定的中心線以規定的半徑彎曲而成的，所述曝光裝置的特征在于，包括：

光罩保持部件，沿著所述圓筒面保持所述光罩圖案，并能夠圍繞所述中心線旋轉；

照明光學系統，使來自光源的照明光朝著設定在所述光罩圖案上的一部分上的照明區域照射，并且以使得在所述圓筒面的周向分布的所述照明光的主光線的延長線朝向所述中心線與所述圓筒面之間的規定位置的方式使所述主光線關于所述圓筒面的周向傾斜；以及

投影光學系統，被射入從所述照明區域產生的反射光束，并使所述光罩圖案的一部分的像成像在所述感應性襯底上，

所述投影光學系統包括第1投影光學系統、凹面鏡和第2投影光學系統，所述第1投影光學系統將從所述照明區域產生的所述反射光束引導至中間像面，并在所述中間像面形成所述光罩圖案的一部分的像；所述凹面鏡配置在所述中間像面的位置或其附近；所述第2投影光學系統被射入在所述凹面鏡反射的所述反射光束，將形成在所述中間像面上的像投影于所述感應性襯底。

2.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述投影光學系統所包括的所述凹面鏡是以沿著所述中間像面的方式彎曲成朝向光入射側凹入的圓筒面狀的凹圓筒面鏡。

3.如權利要求2所述的曝光裝置，其特征在于，

在所述圓筒面的周向分布的所述照明光的主光線的延長線所交叉的所述規定位置設定為所述中心線與所述圓筒面之間的中央位置或其附近。

4.如權利要求3所述的曝光裝置，其特征在于，

將從所述中心線到所述規定位置的距離設定為所述光罩圖案的圓筒面的半徑的約1/2。

5.如權利要求1～4中任一項所述的曝光裝置，其特征在于，

所述照明光學系統包括第1光學部件，該第1光學部件的關于所述光罩圖案的圓筒面的周向的折射力比沿著所述中心線的方向的折射力大。

6.如權利要求1～4中任一項所述的曝光裝置，其特征在于，

所述照明光學系統包括光闌部件，該光闌部件配置在形成作為所述照明光的光源的一次光源像的位置，所述光闌部件以使得在所述光罩圖案的圓筒面的周向上照射所述照明區域的所述照明光的發散角小于沿著所述中心線的方向上照射所述照明區域的所述照明光的發散角的方式設置。

7.一種曝光裝置，使沿著圓柱狀或圓筒狀的光罩的外周面形成的反射性的光罩圖案經由投影光學系統而在感應性襯底上曝光，所述光罩的所述外周面圍繞規定的中心線以規定的半徑彎曲成圓筒面狀，所述光罩能夠圍繞所述中心線旋轉，所述曝光裝置的特征在于，

包括照明光學系統，該照明光學系統包括第1光學部件，所述第1光學部件為了使照明光朝著設定在所述光罩圖案的一部分上的照明區域射出，并且使所述照明光的在所述外周面的周向上分布的主光線的延長線在所述外周面與所述中心線之間的中間位置交叉，所述第1光學部件的關于形成所述光罩圖案的所述外周面的周向的折射力設定得比沿著所述中心線的方向的折射力大，

所述投影光學系統被射入從所述照明區域產生的反射光而使所述光罩圖案的一部分的像成像在所述感應性襯底上。

8.如權利要求7所述的曝光裝置，其特征在于，

將從所述中心線到所述中間位置的距離設定為所述光罩的外周面的半徑的約1/2。

9.如權利要求7或8所述的曝光裝置，其特征在于，

所述照明光學系統所包括的所述第1光學部件包括透鏡，所述透鏡的關于所述光罩的外周面的周向的折射力比沿著所述中心線的方向的折射力大。