[發明專利]一種結晶干擾儀

有效

• 申請號: 201610148873.6
• 申請日: 2016-03-16
• 公開（公告）號: CN105727584B
• 公開（公告）日: 2018-01-16
• 發明（設計）人: 張國東;林贏
• 申請（專利權）人: 武漢艾力拓科技有限公司
• 主分類號: B01D9/00
• 分類號: B01D9/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及工業生產技術領域，更具體地說，尤其涉及一種可加快結晶生成的結晶干擾儀。

背景技術

在工業生產中，通過化學、物理反應生成結晶是生產的主要手段，其反應效率直接影響著生產效率。為提高產品收率，一般生產廠家會通過添加催化劑，或者改變生產工藝中的溫度、壓力、濃度等措施來提高物質結晶，但是往往成本較高，并且受制于化學反應式、生產物質的物理性質等因素的影響，使得許多反應效率不高，效果不佳。

發明內容

本發明的目的在于針對上述現有技術的不足，提供一種用于工業生產中可加快結晶生成的結晶干擾儀，以提高結晶速率，減少結晶時間，提高生產效率。

為實現上述目的，本發明采用的技術方案是：一種結晶干擾儀，包括直流電源、線圈功放模塊、電磁線圈、激發線圈、控制單元和顯示模塊，所述直流電源與線圈功放模塊相連，所述線圈功放模塊內設兩組功放橋電路，一組功放橋電路包括兩個MOS管，與電磁線圈相連；另一組功放橋電路包括四個MOS管，與激發線圈相連，所述線圈功放模塊內還設有測量模塊，所述測量模塊與控制單元的輸入端連接，控制單元的輸出端與顯示模塊連接。

本發明通過線圈功放模塊為電磁線圈提供一個可調的直流電產生高強度磁場，為激發線圈提供脈沖交流電產生高頻交流電場，通過兩組線圈相互作用使溶液中原本無序自旋運動的原子向有序過度，也使晶體分子的結構被重新排列，同時，由激發線圈產生的高頻電場使溶液中正負離子產生共振效應，加快了正負離子的振動，使正負離子接觸的機會大大增加，從而加快了結晶速率和結晶體的生成，減少了結晶時間，提高了生產效率。

附圖說明

圖1是本發明的結構示意圖。

圖中：1－直流電源；2－線圈功放模塊；3－電磁線圈；4－激發線圈；5－控制單元；6－顯示模塊。

具體實施方式

下面結合附圖中的實施例對本發明作進一步的詳細說明，但并不構成對本發明的任何限制。

如圖1所示，本發明提供的一種結晶干擾儀，包括直流電源1、線圈功放模塊2、電磁線圈3、激發線圈4、控制單元5和顯示模塊6。所述直流電源1與線圈功放模塊2相連，由直流電源1將市電轉換成直流電向線圈功放模塊2供電；所述線圈功放模塊2內設兩組功放橋電路，一組功放橋電路包括兩個MOS管，與電磁線圈3相連，為電磁線圈3提供一個可調的直流電產生高強度磁場；另一組功放橋電路包括四個MOS管，與激發線圈4相連，為激發線圈4提供脈沖交流電產生高頻交流電場；所述線圈功放模塊2內還設有用于測量電磁線圈3和激發線圈4的電流、電壓和頻率等信息的測量模塊，所述測量模塊與控制單元5的輸入端連接，控制單元5的輸出端與顯示模塊6連接。

本發明工作時，由直流電源1向線圈功放模塊2供電，線圈功放模塊2通電后產生矩形方波，并作用于纏繞在管道的電磁線圈3和激發線圈4上，形成一定頻率的電磁場，而且線圈功放模塊2對電磁線圈3和激發線圈4輸出的方波周期、占空比可調；同時，控制單元5通過線圈功放模塊2內的測量模塊對電磁線圈3和激發線圈4的電流、電壓、頻率等值進行采樣，并將采樣結果反映在顯示模塊6上。

在工業生產中使用本發明對結晶過程進行干擾的原理是：將電磁線圈3、激發線圈4分別安裝在容器或管道表面，線圈功放模塊2對電磁線圈3提供一個電流可調的直流電，使電磁線圈3產生高強度磁場，這個磁場使溶液中原本無序自旋運動的原子向有序過度，原子自旋轉的同時也以自旋軸和外加磁場的向量方向的夾角繞外加磁場向量旋進，當達到平衡時，磁化強度達到穩定值。而激發線圈4由線圈功放模塊2輸送一組頻率很高的方波信號，由此產生高頻率的磁場激發溶液中的晶體分子，使原本無序的晶體分子有序排列，從而打亂了晶體分子的原有排列，改變了晶體的物理結構，并且在高頻電場的作用下，溶液中的正負離子受到電場的作用振動變得加快加強，大大增加了正負離子接觸的機會，使結晶的速率加快，進而加快了結晶體的生成。

本發明在工作時，不僅需要電磁線圈3和激發線圈4兩部分共同作用于結晶體，還需滿足以下條件：

其激發線圈4的頻率v與電磁線圈3的磁場強度H之間的關系為：

（1）；

式（1）中為原子磁旋比。

而電磁線圈3的磁感應強度B的公式為：

（2）；

式（2）中μ₀為水的磁導率，D為管道直徑，S為管道長度，d為線圈直徑。