[發明專利]一種適用于測量復雜結構的測量系統有效
| 申請號: | 201610147942.1 | 申請日: | 2016-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN105651177B | 公開(公告)日: | 2018-07-24 |
| 發明(設計)人: | 吳加富;繆磊;張曉楠 | 申請(專利權)人: | 蘇州富強科技有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/00 | 分類號: | G01B11/00 |
| 代理公司: | 北京遠大卓悅知識產權代理事務所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 史霞 |
| 地址: | 215000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 適用于 測量 復雜 結構 系統 | ||
本發明公開了一種適用于測量復雜結構的測量系統,包括:控制系統;工作臺;第一導軌組件,該第一導軌組件包括固接于工作臺上的左支座與右支座、第一導軌;測量組件,其可沿第一導軌往復滑移;設于所述工作臺之上的自動上下料組件;以及至少一個載具組件,其中,所述檢測組件設有至少一個其光源的高度及照射角度可調的補光裝置,所述自動上下料組件設有吸料組件,所述載具組件設有用于偏轉待測物側面或內部結構光線的光偏轉器,所述測量組件、自動上下料組件、以及載具組件與所述控制系統電連接。本發明通過減少人工輔助操作的步驟來提高自動化程度,提高對待測物待測物側面及內部結構的測量精度,并且提高測量成功率及測量效率的有益效果。
技術領域
本發明涉及一種非接觸式視覺成像尺寸測量系統,更具體地,涉及一種適用于測量復雜結構的測量系統。
背景技術
非接觸式尺寸測量裝置以光電、電磁、超聲波等技術為基礎,在儀器的測量元件不與被測物體表面接觸的情況下,即可獲得被測物體的各種外表或內在的尺寸數據特征。非接觸式尺寸測量系統與傳統的接觸式測距系統相比精度更高、操作更方便、安全系數更高、潔凈度高、測量過程中對被測物的污染程度小,從而被應用于工業生產及科學研究的多個領域。
典型的非接觸式尺寸測量方法如激光三角法、電渦流法、超聲測量法、視覺成像測量法、超聲波測量法等等,其中視覺成像測量法是指通過機器視覺產品(即圖像攝取裝置,分CMOS相機和CCD相機兩種,CMOS相機像素較高,大約為2500萬像素,CCD相機像素較低,大約為150萬像素)將被攝取目標轉換成圖像信號,傳送給專用的圖像處理系統,根據像素分布和亮度、顏色等信息,轉變成數字化信號,圖像系統對這些信號進行各種運算來抽取目標的特征,進而根據判別的結果來控制現場的設備動作,在測量缺陷和防止缺陷產品被配送到消費者的功能方面具有不可估量的價值。
現有技術中的視覺成像測量系統對于待測物表面及內部的復雜結構形狀的測量具有一定的局限性:首先,對于具有復雜結構的小尺寸待測物來說,測量過程中環境光不能充分照射到待測物表面特別是待測物的內部表面上,造成測量過程中相機曝光不足或者過度包括,使得獲得的圖像成像質量差,從而造成需要多次反復測量才能獲得比較滿意的測量結果,這無疑大大降低了測量效率、提高了測量成本;其次,由于復雜結構的小尺寸待測物比較難以抓取,測物的上下料過程自動化程度低、上下料效率低,此外,上下料過程中容易對待測物造成損壞,增加生產成本;再次,由于復雜結構的小尺寸待測物的結構比較復雜,放置在載具上比較難以夾緊,或者夾緊過程中花費時間過長,又或者雖然夾緊了待測物,但是例如夾具、載具又會對待測物的測量造成不便當的妨礙;最后,對于側面及內部具有復雜結構的待測物進行測量時,由于測量組件的相機鏡頭相比待測物來說尺寸較大,相機鏡頭不能夠充分深入到待測物的側面或內部進行拍照測量,從而使得測量小尺寸的待測物的側面或內部尺寸并沒有比較有效的解決方法。
發明內容
針對上述技術中存在的不足之處,本發明的目的是提供一種適用于測量復雜結構的測量系統,對現有的非接觸式測量系統進行優化改進,確保在通過減少人工輔助操作的步驟來提高自動化程度的同時,提高對待測物特別是對尺寸結構細小、復雜的待測物側面及內部結構的測量精度,并且提高測量成功率,減少測量時間,提高測量效率。為了實現根據本發明的這些目的和其他優點,提供了一種適用于測量復雜結構的測量系統,其特征在于,包括:
控制系統;
工作臺;
設于所述工作臺上的第一導軌組件,該第一導軌組件包括固接于所述工作臺上的左支座與右支座、以及跨接于所述左支座與右支座之間的第一導軌;
設于所述第一導軌上的測量組件,該測量組件可沿所述第一導軌來回往復地滑移;
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