[發明專利]一種漫反射性高的反射膜及其制備方法

有效

• 申請號: 201610145944.7
• 申請日: 2016-03-15
• 公開（公告）號: CN106908880B
• 公開（公告）日: 2019-05-14
• 發明（設計）人: 金亞東;張園園
• 申請（專利權）人: 寧波長陽科技股份有限公司
• 主分類號: G02B5/08
• 分類號: G02B5/08;G02B5/02
• 代理公司: 北京策略律師事務所 11546
• 代理人: 張華

1.一種漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述反射膜包括反射膜基材和涂層，所述反射膜基材具有ABA三層共擠結構，所述涂層涂布于反射膜基材的一個表面上；所述涂層在涂布之前先配制成涂布液，所述涂布液由下述組份組成：溶劑44-76％，膠黏劑20-35％，異氰酸酯交聯劑1-8％，大粒徑粒子1-5％，大粒徑粒子的粒徑為15-30μm；小粒徑粒子2-8％，小粒徑粒子的粒徑為5-15μm；所述的百分含量為重量百分含量；

所述反射膜基材為ABA三層共擠結構；所述反射膜基材的B層由下列組份組成：聚酯69-92％，無機粒子5-15％，所述無機粒子的粒徑為2-5μm，有機發泡劑2-8％，抗靜電劑1-8％；所述反射膜基材的A層由下列組份組成：聚酯80-95％，二氧化硅粒子5-20％，所述二氧化硅粒子的粒徑為2-5μm。

2.根據權利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述大粒徑粒子選自聚苯乙烯(PS)粒子、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)粒子、聚甲基丙烯酸丁酯(PBMA)粒子、或聚酯(PET)粒子中的一種或至少兩種的組合；所述小粒徑粒子選自聚苯乙烯(PS)粒子、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)粒子、聚甲基丙烯酸丁酯(PBMA)粒子、或聚酯(PET)粒子中的一種或至少兩種的組合。

3.根據權利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述反射膜基材中，A層的材料包括PET切片85-90％，SiO₂粒子10-15％。

4.根據權利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述反射膜基材中，B層的材料包括73-74％的PET切片，12-13％金紅石型的TiO₂、BaSO₄或SiO₂，6-7％的聚甲基戊烯或環狀烯烴共聚樹脂，7-8％的抗靜電劑。

5.根據權利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述涂布液包括下述組份：44-76％混合溶劑，20-35％丙烯酸酯膠黏劑或水性聚氨酯膠黏劑或環氧樹脂或聚醋酸乙烯酯或異氰酸酯膠黏劑，1-8％異氰酸酯，1-5％大粒徑粒子，2-8％小粒徑粒子。

6.根據權利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述涂布液的材料包括下述組份：44-60％混合溶劑，30-35％膠黏劑，1-8％異氰酸酯，2-5％大粒徑粒子，4-8％小粒徑粒子。

7.根據權利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述涂布液的材料包括下述組份：59-60％混合溶劑，30％膠黏劑，1-5％異氰酸酯，2-3％大粒徑粒子，4-6％小粒徑粒子。

8.一種權利要求1所述的漫反射性高的反射膜的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括如下步驟：

(1)將B層的原料按配比混合均勻后加入主擠出機，將A層的原料按配比混合均勻加入輔擠出機，熔融擠出、流延鑄片；

(2)將鑄片進行縱向拉伸、橫向拉伸、熱定型，制得所需的反射膜基材；

(3)將涂層所用的混合溶劑、大粒徑粒子、小粒徑粒子、膠黏劑、異氰酸酯交聯劑配制成涂布液，并對反射膜基材表面進行電暈處理，將配好的涂布液涂布于反射膜基材的電暈面上；

(4)將步驟(3)所得的涂布后的基材干燥后收卷；

(5)將步驟(4)所得的卷膜送入烘房熟化24-48小時，熟化溫度為25-60℃，得到漫反射性高的反射膜。

9.一種背光裝置，其特征在于，所述背光裝置包括光源、擴散板、反射膜、擴散膜、增亮膜和邊框，所述反射膜為權利要求1所述的漫反射性高的反射膜。