[發明專利]曝光機及其操作方法

有效

• 申請號: 201610145776.1
• 申請日: 2016-03-15
• 公開（公告）號: CN105652604B
• 公開（公告）日: 2017-10-24
• 發明（設計）人: 鄭瓊;朱曉江
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳市銘粵知識產權代理有限公司44304
• 代理人: 孫偉峰,侯藝

1.一種曝光機，用于對基板進行曝光，其特征在于，所述曝光機包括：

檢測裝置，檢測基板上的異物；

清潔裝置，用于清潔異物，并包括能夠運動的清洗頭；

控制系統，被配置為：接收檢測裝置檢測到的異物的大小和位置信息；根據異物的大小控制清洗頭運動到異物的位置以執行基板的清潔；在清除異物后，控制檢測裝置對基板進行重新掃描，并控制曝光機對檢測合格的基板進行曝光；

所述清潔裝置還包括用于對基板進行清洗的清洗裝置和用于對清洗后的基板的清洗異物的位置處進行干燥的干燥裝置，其中，所述清洗裝置包括所述清洗頭。

2.根據權利要求1所述的曝光機，其特征在于，所述控制系統進一步被配置為：如果檢測裝置對基板重新掃描的結果顯示基板上仍然具有超過預定尺寸的異物，則直接排出所述基板。

3.根據權利要求1所述的曝光機，其特征在于，所述清洗裝置還包括用于儲存二流體混合液的洗液槽以及連接在清洗頭和洗液槽之間的第一管道。

4.根據權利要求1所述的曝光機，其特征在于，所述干燥裝置包括儲存熱氣的熱氣箱、熱氣噴嘴以及連接在熱氣箱與熱氣噴嘴之間的第二管道。

5.根據權利要求1所述的曝光機，其特征在于，所述清潔裝置還包括導軌，所述清洗頭能夠沿著所述導軌運動到與異物對應的位置。

6.根據權利要求1所述的曝光機，其特征在于，所述清洗頭包括微型刷。

7.根據權利要求3所述的曝光機，其特征在于，所述清洗頭包括彼此相鄰的洗液噴嘴和旋轉微型刷，其中，旋轉微型刷在接觸基板的同時旋轉，以摩擦清除基板上的異物。

8.根據權利要求7所述的曝光機，其特征在于，在旋轉微型刷摩擦清除基板上的異物的同時，洗液噴嘴向基板噴射二流體混合液以輔助清洗。

9.一種如權利要求1-8中任意一項所述的曝光機的操作方法，其特征在于，所述操作方法包括：

利用檢測裝置對基板進行掃描檢測，如果檢測裝置檢測到超出預定尺寸的異物，則清洗頭運動到異物的位置并對基板進行清潔；

檢測裝置對基板進行重新掃描，如果檢測裝置未檢測到超出預定尺寸的異物，則曝光機對所述基板進行曝光，

其中，對基板進行清潔的步驟包括：

利用清洗頭洗刷基板上的異物；

在洗刷基板上的異物之后，利用干燥裝置干燥基板的清洗異物的位置。