[發明專利]背光模組在審
| 申請號: | 201610143919.5 | 申請日: | 2013-01-29 |
| 公開(公告)號: | CN105759341A | 公開(公告)日: | 2016-07-13 |
| 發明(設計)人: | 張嘉尹;翁巾婷 | 申請(專利權)人: | 瑞儀光電股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B6/00 | 分類號: | G02B6/00;F21S8/00;F21V8/00 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258 | 代理人: | 魯異 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 背光 模組 | ||
1.一種背光模組,其特征在于包括:
導光板、遮蔽物和若干光源;
所述導光板包括主體和若干微結構;
所述主體包括:
入光面、出光面和反射面;
所述出光面與所述反射面相對;
所述入光面接合在所述出光面與所述反射面之間;
所述出光面上設有微結構區;
所述若干微結構設在所述微結構區內;
所述遮蔽物遮蔽所述若干光源、所述入光面及鄰近所述入光面的一部分所述出光面。
2.根據權利要求1所述的背光模組,其特征在于,
所述主體為均勻厚度平板。
3.根據權利要求1所述的背光模組,其特征在于,
所述主體包括:
漸縮部和平板部。
4.根據權利要求3所述的背光模組,其特征在于,
所述若干微結構設置在所述漸縮部和/或所述平板部上。
5.根據權利要求1所述的背光模組,其特征在于,
所述微結構區在垂直于入光面法線的延伸方向,從所述主體的其中一側面延伸至所述主體的另一側面。
6.根據權利要求1所述的導光板,其特征在于,
所述若干微結構是條紋微結構,在所述出光面上的范圍從入光面端沿入光面法線方向延伸20mm以內。
7.根據權利要求1所述的背光模組,其特征在于,
所述遮蔽物用于產生非可視區。
8.根據權利要求1所述的背光模組,其特征在于,所述若干微結構是條紋微結構、或點狀微結構、或條紋微結構和點狀微結構。
9.根據權利要求1至8中任一項所述的背光模組,其特征在于,
所述微結構區具有一區域是位于鄰近所述入光面的一側輪廓以及所述遮蔽物的另一側輪廓之間;
位于所述區域之中的一部分所述若干微結構是被所述遮蔽物所遮蔽,位于所述區域以外的另外一部分所述若干微結構是沒有被遮蔽;
位于所述區域以下的所述反射面是沒有被所述遮蔽物所遮蔽。
10.根據權利要求9所述的背光模組,其特征在于,
所述區域從鄰近所述入光面的一側輪廓到所述遮蔽物的另一側輪廓的距離,是小于所述主體沿入光面法線方向從所述主體的所述入光面延伸至所述主體相反于所述入光面的另一側面的距離。
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