[發(fā)明專利]PI液涂布方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610143237.4 | 申請(qǐng)日: | 2016-03-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105607349B | 公開(公告)日: | 2019-01-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱美娜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1337 | 分類號(hào): | G02F1/1337 |
| 代理公司: | 深圳市德力知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | pi 液涂布 方法 | ||
1.一種PI液涂布方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1、提供一基板(100)、一超紫外光源(200)、一第一光罩(300)、一第二光罩(400)、及一傳送機(jī)臺(tái)(500);
所述第一光罩(300)的長(zhǎng)度等于基板(100)的寬度;
所述第一光罩(300)包括:一第一透光區(qū)(320)、及分別位于第一透光區(qū)(320)的兩端沿所述第一光罩(300)的寬度方向延伸的兩條狀的第一遮光區(qū)(310);
所述第二光罩(400)的長(zhǎng)度等于基板(100)的長(zhǎng)度;
所述第二光罩(400)包括:第二透光區(qū)(420)、及分別位于第二透光區(qū)(420)的兩端沿所述第二光罩(400)的寬度方向延伸的兩條狀的第二遮光區(qū)(410);
步驟2、將第一光罩(300)設(shè)置于超紫外光源(200)下,將基板(100)放置在傳送機(jī)臺(tái)(500)上,使基板(100)的一條寬邊與第一光罩(300)的一條長(zhǎng)邊對(duì)齊,傳送機(jī)臺(tái)(500)開始傳送基板(100),超紫外光源(200)經(jīng)過第一光罩(300)對(duì)基板(100)進(jìn)行照射,直至基板(100)的另一條寬邊與第一光罩(300)的另一條長(zhǎng)邊對(duì)齊為止;
步驟3、將第二光罩(400)設(shè)置于超紫外光源(200)下,將基板(100)旋轉(zhuǎn)90°后再放置在傳送機(jī)臺(tái)(500)上,使基板(100)的一條長(zhǎng)邊與第二光罩(400)的一條長(zhǎng)邊對(duì)齊,傳送機(jī)臺(tái)(500)開始傳送基板(100),超紫外光源(200)經(jīng)過第二光罩(400)對(duì)基板(100)進(jìn)行照射,直至基板(100)的另一條長(zhǎng)邊與第二光罩(400)的另一條長(zhǎng)邊對(duì)齊為止,從而在基板(100)上形成有機(jī)物濃度不同的第一區(qū)域(110)和第二區(qū)域(120),所述第一區(qū)域(110)為位于所述基板(100)邊緣的經(jīng)過一次和沒有經(jīng)過超紫外光照射的區(qū)域,所述第二區(qū)域(120)為位于所述基板(100)中央的經(jīng)過兩次超紫外光照射的區(qū)域,所述第一區(qū)域(110)包圍所述第二區(qū)域(120),所述第一區(qū)域(110)的有機(jī)物濃度大于所述第二區(qū)域(120)的有機(jī)物濃度;
步驟4、將PI液涂布在基板(100)的第二區(qū)域(120)。
2.如權(quán)利要求1所述的PI液涂布方法,其特征在于,所述步驟1中的基板(100)在前一制程中經(jīng)過濕式清洗。
3.如權(quán)利要求1所述的PI液涂布方法,其特征在于,所述步驟1中的基板(100)為薄膜晶體管陣列基板。
4.如權(quán)利要求1所述的PI液涂布方法,其特征在于,所述步驟1中的基板(100)為彩色薄膜濾光基板。
5.如權(quán)利要求3或4所述的PI液涂布方法,其特征在于,所述步驟1中的基板(100)為玻璃基板。
6.如權(quán)利要求1所述的PI液涂布方法,其特征在于,所述第一區(qū)域(110)為所述基板(100)涂布框膠的區(qū)域,其寬度等于框膠的寬度。
7.如權(quán)利要求1所述的PI液涂布方法,其特征在于,所述步驟3中基板(100)旋轉(zhuǎn)的方向?yàn)轫槙r(shí)針。
8.如權(quán)利要求1所述的PI液涂布方法,其特征在于,所述步驟3中基板(100)旋轉(zhuǎn)的方向?yàn)槟鏁r(shí)針。
9.如權(quán)利要求1所述的PI液涂布方法,其特征在于,所述步驟2與步驟3中傳送機(jī)臺(tái)(500)勻速傳送基板(100)。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
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G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
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