[發(fā)明專利]鋯寶石加工工藝及鋯寶石

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610141491.0
• 申請(qǐng)日: 2016-03-11
• 公開（公告）號(hào): CN105671490B
• 公開（公告）日: 2018-08-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 葛文志
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 浙江美迪凱現(xiàn)代光電有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/24
• 分類號(hào): C23C14/24;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/12;C23C28/00
• 代理公司: 北京中政聯(lián)科專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11489
• 代理人: 吳建鋒

1.一種鋯寶石加工工藝，其特征在于，本工藝包括如下步驟：

A、備料：制備鋯寶石本體(1)、ZrO₂材料、SiO₂材料和AF材料；

B、抽真空：將鋯寶石本體(1)放入鍍膜腔體傘架中，關(guān)門抽真空，然后旋轉(zhuǎn)工件盤，鍍膜腔體內(nèi)在常溫下抽真空且鍍膜腔體內(nèi)被抽真空后鍍膜腔體內(nèi)的真空度為8.0E-4Pa；

C、鍍層：將ZrO₂材料、SiO₂材料和AF材料分別放入相應(yīng)的蒸發(fā)源中，蒸發(fā)源與鍍膜腔體連通，相應(yīng)的蒸發(fā)源分別通過蒸發(fā)工藝依次將ZrO₂材料、SiO₂材料和AF材料鍍?cè)阡唽毷倔w(1)上，即，在鋯寶石本體(1)上形成ZrO₂材料鍍膜層(2)、SiO₂材料鍍膜層(3)和AF材料鍍膜層(4)，制得鋯寶石成品；

ZrO₂材料鍍膜層(2)的具體蒸發(fā)工藝條件為：ZrO₂材料在常溫和真空度為8.0E-4Pa的條件下，通速率為進(jìn)行蒸發(fā)，蒸發(fā)時(shí)間為40-60s；

SiO₂材料鍍膜層(3)的具體蒸發(fā)工藝條件為：SiO₂材料在常溫和真空度為8.0E-4Pa的條件下，通速率為進(jìn)行蒸發(fā)，蒸發(fā)時(shí)間為90-110s；

AF材料鍍膜層(4)的具體蒸發(fā)工藝條件為：AF材料在常溫和真空度為8.0E-4Pa的條件下，通速率為進(jìn)行蒸發(fā)，蒸發(fā)時(shí)間為20-40s；

D、取料：入氣開門，將制得鋯寶石成品取出；

在上述的A步驟中，所述的ZrO₂材料、SiO₂材料和AF材料均呈固態(tài)結(jié)構(gòu)；

在上述的C步驟中，當(dāng)將ZrO₂材料、SiO₂材料和AF材料分別放入相應(yīng)的蒸發(fā)源中后，蒸發(fā)源內(nèi)的相應(yīng)電子槍打擊所述的ZrO₂材料、SiO₂材料和AF材料，通過蒸發(fā)源使均呈固態(tài)的ZrO₂材料、SiO₂材料和AF材料轉(zhuǎn)變?yōu)橐簯B(tài)ZrO₂材料、液態(tài)SiO₂材料與液態(tài)AF材料，然后又轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)ZrO₂材料、氣態(tài)SiO₂材料與氣態(tài)AF材料，再然后轉(zhuǎn)變?yōu)橐簯B(tài)ZrO₂材料、液態(tài)SiO₂材料與液態(tài)AF材料，最后轉(zhuǎn)變?yōu)殄冊(cè)阡唽毷倔w(1)上的ZrO₂材料鍍膜層(2)、SiO₂材料鍍膜層(3)和AF材料鍍膜層(4)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鋯寶石加工工藝，其特征在于，在上述的C步驟中，在鋯寶石本體(1)上形成ZrO₂材料鍍膜層(2)后間隔1min然后再在ZrO₂材料鍍膜層(2)上形成SiO₂材料鍍膜層(3)，ZrO₂材料鍍膜層(2)上形成SiO₂材料鍍膜層(3)后間隔1min然后再在SiO₂材料鍍膜層(3)形成AF材料鍍膜層(4)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鋯寶石加工工藝，其特征在于，在上述的C步驟中，所述的ZrO₂材料鍍膜層(2)厚度為

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鋯寶石加工工藝，其特征在于，在上述的C步驟中，所述的SiO₂材料鍍膜層(3)厚度為

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鋯寶石加工工藝，其特征在于，在上述的C步驟中，所述的AF材料鍍膜層(4)厚度為