[發明專利]一種光柵制作方法

在審

• 申請號: 201610141342.4
• 申請日: 2016-03-11
• 公開（公告）號: CN105676351A
• 公開（公告）日: 2016-06-15
• 發明（設計）人: 劉勝平;陳向飛;葛海雄;施越春;錢明成;陸駿;張云山
• 申請（專利權）人: 南京威寧銳克信息技術有限公司
• 主分類號: G02B6/124
• 分類號: G02B6/124;G02B6/13;G03F7/00
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315
• 代理人: 黃熊

1.一種光柵制作方法，其特征在于，包括：

利用納米壓印技術制作均勻的種子光柵；

利用重構-等效啁啾或微結構準相位匹配技術以及所述均勻的種子光柵， 制作所需要的目標光柵的等效光柵。

2.如權利要求1所述方法，其特征在于，利用納米壓印技術制作均勻的 種子光柵，包括：

制作含有均勻光柵結構的納米壓印母模板；

利用納米壓印技術以及所述納米壓印母模板制作均勻的種子光柵。

3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，利用納米壓印技術以及所述 納米壓印母模板制作均勻的種子光柵，包括：

在用于制作光柵的晶片上涂覆納米壓印膠；

利用納米壓印機和所述納米壓印模板，在所述涂覆有納米壓印膠的用于制 作光柵的晶片上制作均勻的種子光柵。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，利用納米壓印技術制作均勻 的種子光柵，包括利用納米壓印技術在用于制作光柵的晶片的表面制作所述均 勻的種子光柵；

利用重構-等效啁啾或微結構準相位匹配技術以及所述均勻的種子光柵， 制作具備所需要的目標光柵的等效光柵，包括：

利用光刻技術、帶有所述目標光柵的圖案的光刻版以及刻蝕技術，對位于 所述晶片的表面的均勻的種子光柵進行取樣刻蝕；

對表面具備刻蝕后的種子光柵的所述晶片進行干法刻蝕，以制作具備所需 要的目標光柵的等效光柵。

5.如權利要求4所述的方法，其特征在于，所述均勻的種子光柵的材料， 為納米壓印膠；利用光刻技術、帶有所述目標光柵的圖案的光刻版以及刻蝕技 術，對位于所述晶片的表面的均勻的種子光柵進行刻蝕，包括：

對所述種子光柵鍍金屬膜；

通過對具有金屬膜的種子光柵執行舉離操作，實現以金屬材料替換納米壓 印材料而得到以金屬為材料的種子材料；

在以金屬為材料的種子光柵上涂覆光刻膠；

利用帶有所述目標光柵的圖案的光刻版，對涂覆在所述金屬材料的種子光 柵上的光刻膠進行光刻；

在完成對涂覆在所述以金屬為材料的種子光柵上的光刻膠進行光刻后，去 除未被光刻膠覆蓋的金屬光柵結構；

對上表面具備刻蝕后的種子光柵的所述晶片進行刻蝕，以制作具備所需要 的目標光柵的等效光柵，包括：

去除位于所述晶片上的剩余光刻膠，得到以刻蝕后的具有以金屬種子光柵 為掩膜的晶片；

對以刻蝕后的具有以金屬種子光柵為掩膜的晶片進行刻蝕，以制作所需要 的目標光柵的等效光柵。

6.如權利要求4所述的方法，其特征在于，所述種子光柵的材料，為納 米壓印膠；利用光刻技術、帶有所述目標光柵的圖案的光刻版以及刻蝕技術， 對位于所述晶片的表面的種子光柵進行刻蝕，包括：

在所述種子光柵上涂覆光刻膠；

利用帶有所述目標光柵的圖案的光刻版，對所述種子光柵上的光刻膠進行 光刻；

在對所述種子光柵上的光刻膠進行光刻結束后，刻蝕所述種子光柵中的沒 有被光刻膠覆蓋的種子光柵，以得到刻蝕后的種子光柵；

對上表面具備刻蝕后的種子光柵的所述晶片進行刻蝕，以制作具備所需要 的目標光柵的等效光柵，包括：

去除位于所述晶片上表面剩余的光刻膠，得到以刻蝕后的種子光柵作為掩 膜的晶片；

對以刻蝕后的種子光柵作為掩膜的晶片進行刻蝕，以制作具備所需要的目 標光柵的等效光柵。

7.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述目標光柵的等效光柵， 包括下述至少一種：

傾斜光柵；弧形條紋光柵；啁啾光柵；切趾光柵；相移光柵；取樣光柵。

8.一種光柵制作方法，所述方法，包括：

制作均勻光柵；

對所述均勻光柵進行刻蝕，得到具備預定光柵形貌的模板；

以所述具備預定光柵形貌的模板作為納米壓印模板，利用納米壓印機和所 述納米壓印模板，在用于制作光柵的晶片上制作具備預定光柵形貌的晶片結 構；

對所述具備預定光柵形貌的晶片結構進行刻蝕，制作具有所需要的目標光 柵的等效光柵。