[發(fā)明專利]一種激光裂解聚硅氮烷類先驅(qū)體制備陶瓷化涂層的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610139835.4 | 申請日： | 2016-03-11 |
| 公開（公告）號： | CN105821400B | 公開（公告）日： | 2018-09-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 喬玉林;薛胤昌;劉軍;臧艷 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國人民解放軍裝甲兵工程學(xué)院 |
| 主分類號： | C23C20/08 | 分類號： | C23C20/08 |
| 代理公司： | 北京智為時代知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11498 | 代理人： | 王加嶺;楊靜 |
| 地址： | 100072*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 激光 裂解 聚硅氮烷類 先驅(qū) 體制 陶瓷 涂層 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C20-00 通過固態(tài)覆層化合物抑或覆層形成化合物懸浮液分解且覆層中不留存表面材料反應(yīng)產(chǎn)物的化學(xué)鍍覆
C23C20-02 .鍍金屬材料
C23C20-06 .鍍金屬材料以外的無機材料
C23C20-08 ..鍍化合物、混合物或固溶體，例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C20-04 ..鍍金屬
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C20-00 通過固態(tài)覆層化合物抑或覆層形成化合物懸浮液分解且覆層中不留存表面材料反應(yīng)產(chǎn)物的化學(xué)鍍覆
C23C20-02 .鍍金屬材料
C23C20-06 .鍍金屬材料以外的無機材料
C23C20-08 ..鍍化合物、混合物或固溶體，例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C20-04 ..鍍金屬
