[發明專利]一種鈦基體表面制備微納復合結構的方法

在審

• 申請號: 201610137264.0
• 申請日: 2016-03-11
• 公開（公告）號: CN105624763A
• 公開（公告）日: 2016-06-01
• 發明（設計）人: 梁春永;董亞慧;王洪水;程翔;胡文婷
• 申請（專利權）人: 河北工業大學
• 主分類號: C25D11/26
• 分類號: C25D11/26;B23K26/40
• 代理公司: 天津佳盟知識產權代理有限公司 12002
• 代理人: 侯力

1.一種鈦基體表面制備微納復合結構的方法，其特征是，該方法包括以下步驟：

(1)拋光：對鈦基材料依次進行物理拋光（例如打磨、噴砂）和化學拋光，并清洗、烘干；

(2)飛秒激光加工：將拋光后的鈦基材料于加工平臺上進行飛秒激光加工，并清洗、烘 干；

(3)陽極氧化：飛秒激光加工后的鈦基材料置于恒壓直流電源的陽極，采用惰性陰極對 其進行陽極氧化，選用含有氟化氨的有機溶劑和去離子水混合液作為電解液，電壓為10~ 30v，陽極氧化后清洗并烘干。

2.根據權利要求1所述的一種鈦基體表面制備微納復合結構的方法，其特征是，步驟 （1）中所述的化學拋光液采用3wt%的HF和0.02wt‰酸霧抑制劑的水溶液，拋光時間為2min， 所需拋光面積（mm²）與所用拋光液體積（ml）的比例為2~20：1。

3.根據權利要求1所述的一種鈦基體表面制備微納復合結構的方法，其特征是，步驟 （2）中所述的加工平臺為藍寶石飛秒激光加工系統，頻率為1000Hz，激光偏振方向垂直于加 工方向，加工時離焦量為0~1000μm，功率為100~300mw，掃描間距為30~100μm，加工速率為 0.8mm/s。

4.根據權利要求1所述的一種鈦基體表面制備微納復合結構的方法，其特征是，步驟 （3）中所述的直流電源的電壓根據所選有機溶劑種類在10~30V間選擇，按照溶劑極性強、 電壓低的原則選擇，電極間距為3~5cm，氧化時間為10~20min，電解液中有機溶劑和去離子 水的體積比為1:0.5~1.5，氟化氨含量為3.5~10g/L。

5.根據權利要求1所述的一種鈦基體表面制備微納復合結構的方法，其特征是，步驟 （1）和步驟（2）中所述的清洗步驟均為超聲清洗三次，洗液依次為丙酮、乙醇和去離子水，每 次清洗的時間按照“污物和蝕渣的種類和含量多則清洗時間長”的原則而定，最長不超過10 分鐘，步驟（3）所述的清洗步驟只用去離子水超聲清洗。