[發(fā)明專利]一種二氟烷基取代的吡啶酮或吡喃酮的合成方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610134319.2 | 申請日: | 2016-03-09 |
| 公開(公告)號: | CN105669546A | 公開(公告)日: | 2016-06-15 |
| 發(fā)明(設計)人: | 賀春陽;李曉飛 | 申請(專利權(quán))人: | 遵義醫(yī)學院 |
| 主分類號: | C07D215/227 | 分類號: | C07D215/227;C07D213/64;C07D215/233;C07D311/12;C07D311/16 |
| 代理公司: | 重慶強大凱創(chuàng)專利代理事務所(普通合伙) 50217 | 代理人: | 黃書凱 |
| 地址: | 563000 *** | 國省代碼: | 貴州;52 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 烷基 取代 吡啶 吡喃酮 合成 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及有機合成領(lǐng)域,具體涉及一種二氟烷基取代的吡啶酮或吡喃酮的 合成方法。
背景技術(shù)
吡啶酮和吡喃酮是一類十分重要的結(jié)構(gòu)單元,在生物醫(yī)藥方面有著十分廣泛 而重要的應用,是最具成藥潛力的母核結(jié)構(gòu)之一。一方面,其化學性質(zhì)穩(wěn)定,可 供修飾的位點較多。
另一方面,由于氟原子及含氟基團所具有的特殊性質(zhì)(如:氟原子的小原子 半徑、高電負性、以及含氟基團的高親脂性等)使得含氟化合物在醫(yī)藥領(lǐng)域受到 廣泛關(guān)注。據(jù)統(tǒng)計,含氟藥物占整個藥物的比例超過20%;然而非常遺憾的是, 對于二氟烷基取代的吡啶酮和吡喃酮合成方法卻十分有限。從而大大制約了對這 類新結(jié)構(gòu)在新藥研發(fā)中的應用。因此,探索一種更加高效、簡潔、普遍適用的二 氟烷基取代吡啶酮或吡喃酮的合成方法具有顯著的意義。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明意在提供一種二氟烷基取代的吡啶酮或吡喃酮的合成方法,以解決現(xiàn) 有技術(shù)無法高效、簡潔的合成二氟烷基取代的吡啶酮或吡喃酮的缺陷。
本方案中的一種二氟烷基取代的吡啶酮或吡喃酮的合成方法,包括以下步驟:
于惰性溶劑中,光照條件下,以含銥或釕的絡合物為光催化劑,在堿存在下,
將吡啶酮和吡喃酮——A,D或F與式B化合物進行反應,從而形成式二氟烷基 取代的化合物——C,E或G;
上述各式中,R1、R2、R3各自獨立地為H、C1-30烷基、鹵代的C1-30烷基、C2-30烯基、鹵代的C2-30烯基、C2-30炔基,被鹵素或苯基取代的C2-30炔基、-CONR6R7、-COOC1-30烷基、C1-30烷基-羰基、甲酰基、取代或未取代的苯基、取代或未取代的噻吩、 取代或未取代的呋喃、取代或未取代的-C=C-COOC1-30烷基中的一個或多個;其中, R1、R2、R3中的取代指基團中一個或多個H被選自下組的取代基所取代:鹵素、 C1-30烷基、C1-20烷氧基、-CONR6R7、-COOC1-20烷基、C1-20烷基-羰基或甲酰基;R1和 R2共同構(gòu)成苯并基或被一個或多個R6所取代的苯并基,其中,R6為選自下組的基 團:氫、氰基、鹵素、C1-10烷基、鹵代的C1-10烷基、C2-10烯基、鹵代的C2-10烯基、 C2-10炔基、鹵代的C2-10炔基、C1-10烷氧基、鹵代的C1-10烷氧基、-CONR6R7、-COOC1-10烷基、C1-10烷基-羰基、甲酰基、苯基或被一個或多個選自鹵素、C1-6烷基、C1-6烷氧基、-CONR6R7、-COOC1-10烷基、C1-10烷基-羰基或甲酰基的基團所取代的苯基、 -C=C-COOC1-10烷基;
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