[發明專利]基材處理裝置及方法、涂膜形成系統、涂膜形成方法在審
| 申請號： | 201610134262.6 | 申請日： | 2016-03-09 |
| 公開（公告）號： | CN105977445A | 公開（公告）日： | 2016-09-28 |
| 發明（設計）人： | 神田寬行 | 申請（專利權）人： | 株式會社思可林集團 |
| 主分類號： | H01M4/04 | 分類號： | H01M4/04;H01M4/139 |
| 代理公司： | 隆天知識產權代理有限公司 72003 | 代理人： | 宋曉寶;向勇 |
| 地址： | 日本國京*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基材 處理 裝置 方法 形成 系統 | ||
【說明書】：
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