[發(fā)明專利]具有磁分析功能的X射線衍射裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610133044.0
• 申請(qǐng)日: 2016-03-09
• 公開（公告）號(hào): CN105738391A
• 公開（公告）日: 2016-07-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王利晨;雷雨;許志一;趙瑩瑩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 王利晨;雷雨;許志一;趙瑩瑩
• 主分類號(hào): G01N23/20
• 分類號(hào): G01N23/20;G01R33/12
• 代理公司: 北京市正見永申律師事務(wù)所 11497
• 代理人: 黃小臨;馮玉清

1.一種X射線衍射裝置，包括：

樣品臺(tái)，其上用于固定載玻片，所述載玻片上安裝有樣品；

X射線源，用于照射X射線到所述樣品上；

檢測(cè)器，用于檢測(cè)經(jīng)所述樣品反射或透射的X射線；以及

磁場(chǎng)發(fā)生器，用于產(chǎn)生并且向所述樣品施加磁場(chǎng)。

2.如權(quán)利要求1所述的X射線衍射裝置，其中，所述磁場(chǎng)發(fā)生器是電磁鐵，所述電磁鐵包括：

勵(lì)磁線圈；以及

設(shè)置在所述勵(lì)磁線圈中的鐵芯，所述鐵芯具有朝向所述樣品延伸的極頭。

3.如權(quán)利要求2所述的X射線衍射裝置，其中，所述極頭能夠朝向和遠(yuǎn)離所述樣品移動(dòng)以調(diào)節(jié)施加到所述樣品的磁場(chǎng)的大小。

4.如權(quán)利要求1所述的X射線衍射裝置，還包括：

磁傳感器，設(shè)置在所述樣品臺(tái)上并且在所述樣品附近，用于感測(cè)向所述樣品施加的磁場(chǎng)。

5.如權(quán)利要求1所述的X射線衍射裝置，其中，所述磁場(chǎng)發(fā)生器包括用于施加第一磁場(chǎng)的第一電磁鐵，所述第一磁場(chǎng)垂直或者平行于所述樣品所位于的主平面。

6.如權(quán)利要求5所述的X射線衍射裝置，其中，所述磁場(chǎng)發(fā)生器還包括用于施加第二磁場(chǎng)的第二電磁鐵，所述第二磁場(chǎng)垂直于所述第一磁場(chǎng)。

7.如權(quán)利要求6所述的X射線衍射裝置，其中，所述磁場(chǎng)發(fā)生器還包括用于施加第三磁場(chǎng)的第三電磁鐵，所述第三磁場(chǎng)垂直于所述第一磁場(chǎng)和所述第二磁場(chǎng)。

8.如權(quán)利要求1所述的X射線衍射裝置，還包括：

殼體，用于限定密封空間，所述樣品臺(tái)設(shè)置在所述密封空間內(nèi)；

溫度調(diào)節(jié)單元，用于調(diào)節(jié)所述密封空間內(nèi)的溫度；

溫度傳感器，用于感測(cè)所述密封空間內(nèi)的溫度；以及

溫度控制器，用于基于所述溫度傳感器感測(cè)到的所述密封空間內(nèi)的溫度來控制所述溫度調(diào)節(jié)單元的運(yùn)行。

9.如權(quán)利要求8所述的X射線衍射裝置，其中，所述載玻片包括：

本體，其上形成有凹槽和圍繞所述凹槽的側(cè)壁，所述溫度傳感器設(shè)置在所述凹槽內(nèi)，并且通過導(dǎo)線連接到所述溫度控制器，所述溫度傳感器上覆蓋有導(dǎo)熱材料，所述樣品能安置在所述導(dǎo)熱材料上。

10.如權(quán)利要求9所述的X射線衍射裝置，其中，所述導(dǎo)熱材料的上表面低于圍繞所述凹槽的側(cè)壁的上表面或者與之齊平。