[發明專利]一種無氰堿性鍍銅電鍍液及電鍍工藝在審
| 申請號: | 201610132947.7 | 申請日: | 2016-03-09 |
| 公開(公告)號: | CN105543909A | 公開(公告)日: | 2016-05-04 |
| 發明(設計)人: | 胡國輝;王東風;劉軍;肖春燕;包海生;陶熊新 | 申請(專利權)人: | 重慶立道表面技術有限公司 |
| 主分類號: | C25D3/38 | 分類號: | C25D3/38;C25D5/36 |
| 代理公司: | 北京東方盛凡知識產權代理事務所(普通合伙) 11562 | 代理人: | 宋平 |
| 地址: | 402284*** | 國省代碼: | 重慶;85 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 堿性 鍍銅 電鍍 工藝 | ||
1.一種無氰堿性鍍銅電鍍液及電鍍工藝,其具體工藝步驟包括:
(1)精拋打磨:使用打磨機將鐵基工件進行精拋光,拋光到表面粗糙度 Ra小于等于0.1;
(2)化學除油:使用LD-1146化學除油劑處理經(1)步打磨過的工件, 操作溫度70℃,處理時間10min;
(3)電解除油:以LD-1160為電解液,以經化學除油后的工件做陰極, 純鐵板為陽極,電流密度5A/dm2,操作溫度維持在60℃,陰極除油時間5min;
(4)酸洗活化:將上述電解除油后的工件浸入20%的鹽酸溶液中酸洗并 活化1min,干燥待用;
其特征在于:
(5)施鍍:無氰堿性鍍銅鍍液組成為,硫酸銅5~50g/L,醋酸鈉2~50g/L, 5,5二甲基海因5~100g/L,葡萄糖酸鈉2~100g/L,氯化鈉1~30g/L,丁二酸 1~30g/L,四乙烯五胺2~40g/L,噻唑0.001~0.1g/L;
選用5L標準實驗用電鍍槽,將鍍液按照上述比例混合倒入電鍍槽中,以 經預處理過的待鍍工件基體為陰極,純銅板為陽極,陰陽極板面積比為1:2.5, 電流密度0.2~4.0A/dm2,操作溫度55~60℃,用30%硫酸或40%氫氧化鉀調 整溶液pH在8.5~9.5,施鍍過程中保持空氣攪拌,電鍍時間30~60min。
2.按照權利要求1所述的一種無氰堿性鍍銅電鍍液及電鍍工藝,其特征 在于具體制備方法中的步驟(5):
(5)施鍍:無氰堿性鍍銅鍍液組成為,硫酸銅5/L,醋酸鈉25g/L,5, 5二甲基海因100g/L,葡萄糖酸鈉51g/L,氯化鈉15g/L,丁二酸30g/L,四 乙烯五胺22g/L,噻唑0.001g/L;
選用5L標準實驗用電鍍槽,將鍍液按照上述比例混合倒入電鍍槽中,以 經預處理過的待鍍工件基體為陰極,純銅板為陽極,陰陽極板面積比為1:2.5, 電流密度2.0A/dm2,操作溫度58℃,用30%硫酸或40%氫氧化鉀調整溶液pH 在8.5,施鍍過程中保持空氣攪拌,電鍍時間45min。
3.按照權利要求1所述的一種無氰堿性鍍銅電鍍液及電鍍工藝,其特征 在于具體制備方法中的步驟(5):
(5)施鍍:無氰堿性鍍銅鍍液組成為,硫酸銅27g/L,醋酸鈉50g/L,5, 5二甲基海因5g/L,葡萄糖酸鈉2g/L,氯化鈉30g/L,丁二酸25g/L,四乙烯 五胺2g/L,噻唑0.1g/L;
選用5L標準實驗用電鍍槽,將鍍液按照上述比例混合倒入電鍍槽中,以 經預處理過的待鍍工件基體為陰極,純銅板為陽極,陰陽極板面積比為1:2.5, 電流密度4.0A/dm2,操作溫度55℃,用30%硫酸或40%氫氧化鉀調整溶液pH 在9.5,施鍍過程中保持空氣攪拌,電鍍時間30min。
4.按照權利要求1所述的一種無氰堿性鍍銅電鍍液及電鍍工藝,其特征 在于具體制備方法中的步驟(5):
(5)施鍍:無氰堿性鍍銅鍍液組成為,硫酸銅50g/L,醋酸鈉2g/L,5, 5二甲基海因52g/L,葡萄糖酸鈉100g/L,氯化鈉1g/L,丁二酸1g/L,四乙 烯五胺40g/L,噻唑0.05g/L;
選用5L標準實驗用電鍍槽,將鍍液按照上述比例混合倒入電鍍槽中,以 經預處理過的待鍍工件基體為陰極,純銅板為陽極,陰陽極板面積比為1:2.5, 電流密度0.2A/dm2,操作溫度60℃,用30%硫酸或40%氫氧化鉀調整溶液pH 在9.0,施鍍過程中保持空氣攪拌,電鍍時間60min。
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