[發明專利]OLED顯示屏及其光學補償層的制作方法

在審

• 申請號: 201610130926.1
• 申請日: 2016-03-08
• 公開（公告）號: CN107170909A
• 公開（公告）日: 2017-09-15
• 發明（設計）人: 陳紅;魏朝剛
• 申請（專利權）人: 昆山國顯光電有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/50;H01L27/32
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司44224
• 代理人: 唐清凱

技術領域

本發明涉及OLED顯示技術領域，特別是涉及一種OLED顯示屏及其光學補償層的制作方法。

背景技術

OLED是下一代新型顯示技術和照明技術，應用前景巨大。

在AMOLED顯示屏的像素結構中，每個子像素都依次包括陽極層、空穴注入層、空穴傳輸層、發光層、電子傳輸層、電子注入層以及陰極層。為簡單起見，OLED器件結構如圖3給出。根據頂發光或底發光的要求，可以使用電子傳輸層(ETL)或空穴傳輸層(HTL)或空穴注入層(HIL)作為光學補償層，用來調節微腔效應、提高器件效率。定義紅色子像素的光學補償層的厚度為Rh、綠色子像素的光學補償層的厚度Gh、藍色子像素的光學補償層的厚度為Bh。

一般地，要求Rh>Gh>Bh。

傳統的已經量產的中小尺寸AMOLED采用“紅色子像素、綠色子像素和藍色子像素依次相鄰”(RGB side by side)的蒸鍍技術。以下結構以頂發光的AMOLED顯示屏為例進行說明，假設采用空穴傳輸層(HTL)作為光學補償層。參考圖1，為了給這種像素排列結構蒸鍍光學補償層，通常是采用如下的方法。

首先，采用共通金屬掩膜板(Common Metal Mask，CMM)蒸鍍厚度為a+c的第一層光學補償層材料。該第一層光學補償層材料同時覆蓋紅色子像素、綠色子像素和藍色子像素。

接著，采用精細金屬掩膜板(Fine Metal Mask，FMM)蒸鍍厚度為b的第二層光學補償層材料。該第二層光學補償層材料僅覆蓋紅色子像素。

最后，采用精細金屬掩膜板(Fine Metal Mask，FMM)蒸鍍厚度為b-a的第三層光學補償層材料。該第三層光學補償層材料僅覆蓋綠色子像素。

上述方法形成的光學補償層中：紅色子像素的發光材料層上覆蓋的厚度為a+b+c、綠色子像素的發光材料層上覆蓋的厚度為b+c、藍色子像素的發光材料 層上覆蓋的厚度為a+c。這里要求b>a。這樣就滿足了上述Rh>Gh>Bh的要求。

可以看到，在上述方法的后兩個步驟中，每一次蒸鍍都是采用精細金屬掩膜板對一個子像素進行蒸鍍。那么精細金屬掩膜板的開孔大小就是與子像素的蒸鍍面積大小相同。當需要為更高分辨率的顯示屏制作光學補償層時，精細金屬掩膜板的開孔就更小。

然而，隨著精細金屬掩膜板開孔的變小，其對有機材料浪費率越來越大，不利于AMOLED顯示屏成本的降低。

發明內容

基于此，有必要提供一種OLED顯示屏的光學補償層的制作方法，其能夠提高材料利用率。

此外，也提供一種OLED顯示屏的制作方法。

一種OLED顯示屏的光學補償層的制作方法，用于以下像素結構：每個像素單元中的綠色子像素和藍色子像素均與紅色子像素相鄰；所述方法包括如下步驟：

采用共通金屬掩膜板蒸鍍厚度為c的第一層光學補償層材料；所述第一層光學補償層材料同時覆蓋紅色子像素、綠色子像素和藍色子像素的發光區域；

采用精細金屬掩膜板蒸鍍厚度為b的第二層光學補償層材料；所述第二層光學補償層材料同時覆蓋紅色子像素和綠色子像素的發光區域；

采用精細金屬掩膜板蒸鍍厚度為a的第三層光學補償層材料；所述第三層光學補償層材料同時覆蓋紅色子像素和藍色子像素的發光區域；

其中，蒸鍍第一層光學補償層材料、第二層光學補償層材料以及第三層光學補償層材料的順序為任意順序。

在其中一個實施例中，每個像素單元中的綠色子像素、紅色子像素、藍色子像素均為條形，且依次并列排列。

在其中一個實施例中，每個像素單元中的綠色子像素、紅色子像素、藍色子像素均為塊狀，且綠色子像素和紅色子像素在第一方向上并列排列、紅色子像素和藍色子像素在第二方向上并列排列。所述第一方向和第二方向垂直。

在其中一個實施例中，當蒸鍍第二層光學補償層材料先于蒸鍍第三層光學補償層材料時，b>a；當蒸鍍第三層光學補償層材料先于蒸鍍第二層光學補償層材料時，a>b。

一種OLED顯示屏的光學補償層的制作方法，用于以下像素結構：每個像素單元中的綠色子像素、紅色子像素、藍色子像素均為條形，且依次并列排列；相鄰像素單元的同色子像素相鄰；所述方法包括如下步驟：

采用共通金屬掩膜板蒸鍍厚度為c的第一層光學補償層材料；所述第一層光學補償層材料同時覆蓋每個像素單元中的紅色子像素、綠色子像素和藍色子像素的發光區域；