[發明專利]蝕刻液再生系統

在審

• 申請號: 201610126905.2
• 申請日: 2016-03-07
• 公開（公告）號: CN105648442A
• 公開（公告）日: 2016-06-08
• 發明（設計）人: 鄧俊濤;蔡志浩;劉永;鐘惠良
• 申請（專利權）人: 東莞市威力固電路板設備有限公司
• 主分類號: C23F1/46
• 分類號: C23F1/46;C23F1/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及印刷電路板制作領域，尤其涉及一種蝕刻液再生系 統。

背景技術

隨著人們對電子產品的需求量日益增加，印刷電路板作為電子產 品的必要載體，其生產品質決定了所述電子產品的性能，因此，保證 印刷電路板的生產品質至關重要。蝕刻是印刷電路板生產中的一個重 要環節，其主要是利用蝕刻液對影像轉移后的銅箔層進行化學反應形 成導電線路。當蝕刻液中由于溶解的物質太多時會導致蝕刻性能下 降，從而影響印刷電路板的生產品質。因此，利用蝕刻液再生系統對 蝕刻性能下降的蝕刻液進行調節，對于印刷電路板的生產具有重要的 意義。

相關技術中，蝕刻液再生系統一般包括檢測裝置和藥水添加裝 置，先通過檢測裝置檢測蝕刻液濃度，再利用藥水添加裝置添加藥水 實現對蝕刻液濃度的調節。但是，目前的蝕刻液再生系統檢測裝置普 遍采用簡單的測量儀，測量指標單一且測量精度低；檢測裝置安裝于 蝕刻槽中，影響蝕刻液蝕刻且不能及時檢測到蝕刻液的變化；蝕刻液 的藥水由水、氧化劑和鹽酸組成，而藥水調配通常通過人工測量進行， 使藥水的成份添加比例及均勻性非常不穩定且效率低，從而難以實現 對蝕刻液濃度的精確調節。

因此，有必要提供一種新的蝕刻液再生系統解決上述問題。

發明內容

本發明需要解決的技術問題是提供能夠自動調配藥水的成份添 加比例、調節精度高、不影響蝕刻、及時檢測蝕刻液變化且效率高的 蝕刻液再生系統。

本發明提供一種蝕刻液再生系統，包括主液管路、取樣管路、若 干添加管路、用于檢測主液成份的成份檢測單元及控制器，所述取樣 管路的進液端和所述添加管路的出液端分別與所述主液管路連通，所 述成份檢測單元位于所述取樣管路內，所述主液管路包括由管道依次 連通的主液流量計及水射器，沿主液流動方向，所述主液流量計與所 述取樣管路的進液端均設置于所述水射器的后端，多條所述添加管路 的出液端分別與所述水射器連通，所述添加管路包括藥水流量計及氣 閥，所述藥水流量計、氣閥和所述水射器依次連通，所述成份檢測單 元、主液流量計、藥水流量計和所述氣閥分別與所述控制器電連接。

優選的，所述水射器包括噴嘴、擴壓管及與所述噴嘴和所述擴壓 管連通的吸入室，多條所述添加管路分別與所述吸入室連通。

優選的，所述添加管路還包括入液閥及過濾器，所述入液閥、過 濾器、藥水流量計和所述氣閥依次連通。

優選的，所述添加管路設有3條，分別為水添加管路、鹽酸添加 管路及氧化劑添加管路。

優選的，所述成份檢測單元包括分別與所述控制器電連接的氧化 還原電位檢測器、比重檢測器及電導率檢測器。

優選的，所述蝕刻液再生系統還包括顯示單元，所述顯示單元與 所述控制器電連接。

優選的，所述顯示單元包括分別與所述控制器電連接的若干個參 數儀表及主監控儀表。

優選的，所述控制器為可編程控制器。

優選的，所述主液流量計和所述藥水流量計為浮球式流量計或感 應式流量計。

與相關技術相比，本發明的所述蝕刻液再生系統通過設置于取樣 管路的成份檢測單元檢測蝕刻液中各成份比例并發送至控制器，所述 控制器再根據主液流量和藥水流量計以及成分檢測單元的測定值自 動確定各藥水添加量，同時，蝕刻液高速流過水射器產生負壓，所述 控制器控制添加管路的氣閥開啟，利用蝕刻液在水射器內產生的負壓 將所述藥水管路中藥水高速注入蝕刻液中，實現對蝕刻液的再生。所 述蝕刻液再生系統具有能夠自動確定各藥水添加量、精度高、不影響 蝕刻、及時檢測蝕刻液變化且效率高的蝕刻液再生系統的優點。

附圖說明

圖1為本發明蝕刻再生系統的結構示意圖；

圖2為本發明蝕刻再生系統另一視角的結構示意圖；

圖3為圖2所示蝕刻再生系統的水射器的剖視圖。

具體實施方式

下面將結合附圖和實施方式對本發明作進一步說明。