[發明專利]一種準一維稀土六硼化物納米線的制備方法有效
| 申請號: | 201610123869.4 | 申請日: | 2016-03-07 |
| 公開(公告)號: | CN105800628B | 公開(公告)日: | 2018-05-04 |
| 發明(設計)人: | 肖立華;唐東升;周勇;胡明哲;冉景榆;仇偉;劉儀柯 | 申請(專利權)人: | 貴州理工學院 |
| 主分類號: | C01B35/04 | 分類號: | C01B35/04;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 長沙星耀專利事務所(普通合伙)43205 | 代理人: | 陳亞琴,寧星耀 |
| 地址: | 550003 貴州省貴陽市云巖*** | 國省代碼: | 貴州;52 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 準一維 稀土 六硼化物 納米 制備 方法 | ||
1.一種準一維稀土六硼化物納米線的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
(1)將硼源置于管式電爐剛玉管上氣流方向的溫區1,稀土源置于管式爐剛玉管下氣流方向的溫區2,硅襯底置于溫區2稀土源的下氣流方向,然后把剛玉管抽真空,再充滿保護性氣氛,重復洗氣≥2次后,繼續抽真空;
(2)向剛玉管通入保護性氣氛,將溫區1和溫區2分別以25~30℃/min和10~20℃/min的速率直接升溫至850~1100℃,待溫區1和溫區2的溫度均穩定后,保溫20~180min,然后在保護性氣氛下,自然冷卻至室溫,得準一維稀土六硼化物納米線。
2.根據權利要求1所述準一維稀土六硼化物納米線的制備方法,其特征在于:步驟(1)中,所述硼源中硼元素與稀土源中稀土元素的摩爾比為6~110:1。
3.根據權利要求1所述準一維稀土六硼化物納米線的制備方法,其特征在于:步驟(1)中,所述硼源中硼元素與稀土源中稀土元素的摩爾比為10~70:1。
4.根據權利要求1~3之一所述準一維稀土六硼化物納米線的制備方法,其特征在于:步驟(2)中,所述保護性氣氛通入的流速為5~150 mL/min。
5.根據權利要求1~3之一所述準一維稀土六硼化物納米線的制備方法,其特征在于:步驟(2)中,所述保護性氣氛通入的流速為20~120 mL/min。
6.根據權利要求1~3之一所述準一維稀土六硼化物納米線的制備方法,其特征在于:步驟(2)中,向剛玉管通入保護性氣氛,將溫區1和溫區2分別以25~30℃/min和10~20℃/min的速率直接升溫至930~1000℃,待溫區1和溫區2的溫度均穩定后,保溫30~120 min,然后在保護性氣氛下,自然冷卻至室溫,得準一維稀土六硼化物納米線。
7.根據權利要求4所述準一維稀土六硼化物納米線的制備方法,其特征在于:步驟(2)中,向剛玉管通入保護性氣氛,將溫區1和溫區2分別以25~30℃/min和10~20℃/min的速率直接升溫至930~1000℃,待溫區1和溫區2的溫度均穩定后,保溫30~120 min,然后在保護性氣氛下,自然冷卻至室溫,得準一維稀土六硼化物納米線。
8.根據權利要求5所述準一維稀土六硼化物納米線的制備方法,其特征在于:步驟(2)中,向剛玉管通入保護性氣氛,將溫區1和溫區2分別以25~30℃/min和10~20℃/min的速率直接升溫至930~1000℃,待溫區1和溫區2的溫度均穩定后,保溫30~120 min,然后在保護性氣氛下,自然冷卻至室溫,得準一維稀土六硼化物納米線。
9.根據權利要求1~3之一所述準一維稀土六硼化物納米線的制備方法,其特征在于:步驟(1)中,所述硼源為硼氫化鉀、硼氫化鈉或硼氫化鋰中的一種或幾種。
10.根據權利要求4所述準一維稀土六硼化物納米線的制備方法,其特征在于:步驟(1)中,所述硼源為硼氫化鉀、硼氫化鈉或硼氫化鋰中的一種或幾種。
11.根據權利要求5所述準一維稀土六硼化物納米線的制備方法,其特征在于:步驟(1)中,所述硼源為硼氫化鉀、硼氫化鈉或硼氫化鋰中的一種或幾種。
12.根據權利要求6所述準一維稀土六硼化物納米線的制備方法,其特征在于:步驟(1)中,所述硼源為硼氫化鉀、硼氫化鈉或硼氫化鋰中的一種或幾種。
13.根據權利要求1~3之一所述準一維稀土六硼化物納米線的制備方法,其特征在于:步驟(1)中,所述稀土源為無水稀土氯化物、含水稀土氯化物、稀土氧化物或稀土氯氧化物中的一種或幾種。
14.根據權利要求4所述準一維稀土六硼化物納米線的制備方法,其特征在于:步驟(1)中,所述稀土源為無水稀土氯化物、含水稀土氯化物、稀土氧化物或稀土氯氧化物中的一種或幾種。
15.根據權利要求5所述準一維稀土六硼化物納米線的制備方法,其特征在于:步驟(1)中,所述稀土源為無水稀土氯化物、含水稀土氯化物、稀土氧化物或稀土氯氧化物中的一種或幾種。
16.根據權利要求6所述準一維稀土六硼化物納米線的制備方法,其特征在于:步驟(1)中,所述稀土源為無水稀土氯化物、含水稀土氯化物、稀土氧化物或稀土氯氧化物中的一種或幾種。
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