[發(fā)明專利]棉花GhPHOT2基因在植物抗強(qiáng)光傷害方面的應(yīng)用在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610122692.6 | 申請(qǐng)日: | 2016-03-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105567704A | 公開(公告)日: | 2016-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張驍;趙翔;臧毅浩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 河南大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C12N15/29 | 分類號(hào): | C12N15/29;A01H5/00 |
| 代理公司: | 鄭州聯(lián)科專利事務(wù)所(普通合伙) 41104 | 代理人: | 時(shí)立新 |
| 地址: | 475001*** | 國(guó)省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 棉花 ghphot2 基因 植物 強(qiáng)光 傷害 方面 應(yīng)用 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于基因工程應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及棉花GhPHOT2基因在植物抗強(qiáng)光傷害方面的應(yīng)用。
背景技術(shù)
棉花是喜光喜溫的植物,在世界各地都有種植。光照是棉花正常生長(zhǎng)不可缺少的重要因素之一,對(duì)棉花的產(chǎn)量和質(zhì)量都有很大的影響。目前對(duì)棉花和光照關(guān)系的研究,主要集中在光照時(shí)間和光照強(qiáng)度對(duì)棉花的影響,以及不同光質(zhì)如紅光和藍(lán)光等對(duì)棉花產(chǎn)量的影響,但有關(guān)棉花光受體的研究還未見報(bào)道。
已有研究證明參與向光性的受體主要是向光素、隱花色素和光敏色素。向光素是一種常見的光信號(hào)受體,參與藍(lán)光誘導(dǎo)下植物的向光反應(yīng)、氣孔開放和葉綠體運(yùn)動(dòng)等諸多反應(yīng)。目前在苔蘚、擬南芥和玉米等植物中陸續(xù)發(fā)現(xiàn)了兩種藍(lán)光受體,分別為PHOT1和PHOT2。但現(xiàn)有關(guān)于這兩種藍(lán)光受體的研究主要集中于擬南芥中相關(guān)基因及其表達(dá)后與葉綠體運(yùn)動(dòng)之間的關(guān)系,而關(guān)于棉花中相關(guān)基因的作用及其功能的研究則較為缺乏。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明在對(duì)棉花Ghphot2基因進(jìn)一步研究基礎(chǔ)上,提供了棉花Ghphot2基因在植物抗逆境特性,具體而言是抗強(qiáng)光傷害方面的新應(yīng)用,從而為培育植物抗逆新品種提供了可能性。
本發(fā)明所采取的詳細(xì)技術(shù)方案介紹如下。
棉花GhPHOT2基因在植物抗強(qiáng)光傷害中的應(yīng)用,該基因與葉綠體避光運(yùn)動(dòng)相關(guān),具體而言,含有棉花GhPHOT2基因的植株,葉片對(duì)光敏感度較高,具體而言,對(duì)藍(lán)光敏感強(qiáng)度為10μmol·m-2·s-1,超過此強(qiáng)度時(shí),葉綠體出現(xiàn)明顯的避光運(yùn)動(dòng)響應(yīng)。
將棉花中GhPHOT2基因沉默后,棉花植株在光照時(shí),葉綠體缺少避光運(yùn)動(dòng),容易受到光傷害。
利用棉花GhPHOT2基因培養(yǎng)耐光傷害植物新品種的方法,將棉花GhPHOT2基因轉(zhuǎn)化植株,或超表達(dá)后,相應(yīng)植株中葉綠體避光能力增強(qiáng),可明顯提升植物的耐光能力,避免光傷害。
擬南芥(Arabidopsisthaliana)屬十字花科鼠耳芥屬植物,又名鼠耳芥、阿拉伯芥、阿拉伯草,是植物遺傳學(xué)、分子生物學(xué)常用的模式植物之一,也常用于植物逆境條件下抗性基因研究。本發(fā)明即以此模式植物為例,將棉花GhPHOT2基因轉(zhuǎn)錄進(jìn)擬南芥phot2突變體后,對(duì)該基因的功能進(jìn)行了具體分析。
光照對(duì)植物的生理反應(yīng)起著非常重要的調(diào)節(jié)作用。藍(lán)光誘導(dǎo)植物向光反應(yīng)、氣孔開放、葉綠體運(yùn)動(dòng)、葉片定位及伸展等生理反應(yīng),PHOT2作為一種藍(lán)光受體,可以特異性調(diào)節(jié)葉綠體的避光運(yùn)動(dòng),降低了強(qiáng)光對(duì)葉綠體的傷害作用,從而優(yōu)化了植物的生長(zhǎng)發(fā)育。本發(fā)明在對(duì)棉花GhPHOT2基因深入研究基礎(chǔ)上,認(rèn)為:含有棉花GhPHOT2基因的植株對(duì)光傷害敏感度更高,即對(duì)光傷害的響應(yīng)更為迅速和敏感,在面臨超過適應(yīng)量的光照傷害時(shí),能夠調(diào)節(jié)葉片中葉綠體更為及時(shí)和迅速的做出避光運(yùn)動(dòng),從而避免光傷害。以本發(fā)明為基礎(chǔ),利用基因工程,可為培育耐強(qiáng)光的逆境植物新品種提供了新的可能性。
附圖說明
圖1為棉花和擬南芥(野生型)正常生長(zhǎng)過程中,藍(lán)光小孔實(shí)驗(yàn)時(shí)不同光照強(qiáng)度下葉片變化情況及葉綠體避光情況,圖中BL表示藍(lán)光光照,BL后數(shù)字表示具體光照強(qiáng)度;其中(a)為棉花真葉在不同光強(qiáng)下小孔實(shí)驗(yàn)與葉綠體避光情況,從圖中可以看出,棉花在藍(lán)光強(qiáng)度為10μmol·m-2·s-1時(shí),小孔現(xiàn)象明顯,并且葉綠體開始出現(xiàn)避光反應(yīng);(b)為擬南芥真葉在不同光強(qiáng)下小孔實(shí)驗(yàn)與葉綠體避光情況,從圖中可以看出,擬南芥在藍(lán)光強(qiáng)度大于20μmol·m-2·s-1小孔現(xiàn)象明顯,并且葉綠體開始出現(xiàn)避光反應(yīng);
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