[發明專利]應用膜處理與富氧裝置進行黑臭河道處理的系統有效
| 申請號: | 201610119916.8 | 申請日: | 2016-03-03 |
| 公開(公告)號: | CN105565613B | 公開(公告)日: | 2018-03-02 |
| 發明(設計)人: | 李飛;羅少川;羅治元;張遠國;王國玲;凌茂生;汪杰;徐春林 | 申請(專利權)人: | 安徽金達萊環境工程有限公司 |
| 主分類號: | C02F9/14 | 分類號: | C02F9/14;C02F101/16;C02F101/10 |
| 代理公司: | 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙)11350 | 代理人: | 湯東鳳 |
| 地址: | 230000 安徽省合肥市高新*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 應用 處理 裝置 進行 河道 系統 | ||
技術領域
本發明涉及河道處理技術,尤其涉及應用膜處理與富氧裝置進行黑臭河道處理的系統。
背景技術
城市河流作為城市的命脈,不僅有水體循環、水土保持、貯水調洪、水質涵養等功能,而且還能調節溫濕度、改善城市氣候,健康的城市水體環境是城市可持續發展的重要保障。隨著城市化、工業化進程的不斷加快,城市河道生態系統近些年來承受的壓力也越來越大,我國許多城市河流水質污染和生態退化問題十分突出,甚至出現了季節性或常年性水體黑臭現象。水環境污染已然成為全球重要的環境問題之一,而城市河流的污染則顯得尤為突出。
所謂黑臭河道是指河道特別是城市河道的水體經過污染源的侵入,酸雨、生活垃圾、大氣揚塵等垃圾的侵入,長期積累在河底的淤泥及淤泥釋放的有害物質沒有及時處理;水體缺少循環,溶解氧過低,缺少水生動物、植物生存的環境,水體逐漸喪失了自凈能力,加上河底淤泥不斷地釋放分解的N、P等營養物質,導致水體富營養化,最終導致“水華”現象,產生異味,容易發黑變臭。
河道治理是指為了徹底解決水體黑臭河水體底泥淤積等問題,針對水體的具體情況,量體定制治理技術方案,以達到全面降解各種污染物,提升水體透明度,提高水體質量等級,改善水景觀感的目的。近年來,隨著污水處理技術的不斷進步,河道治理也已經進入環保人員的視野。現在河道治理的主要方法有:物理法、曝氣富氧法、化學法、生物法。但這些方法都有自己的缺點:
物理法:引水換水+底泥疏浚。引水換水對于富營養化嚴重的湖泊不是長久之計;底泥疏浚雖然可以清除大量有機物、氮、磷等營養物,但可能會破壞湖泊原有的生物種群,消弱其自凈能力,對生態修復帶來負面影響。
曝氣富氧法:通過向水體底泥通入高濃度氧氣,與水體中黑臭物質發生氧化還原反應,可以有效去除水體中黑臭物質,這已成為一些發達國家常采用的方法。
化學法:通過絮凝作用去除水體中污染物,但此法投資高、運營成本高,且易給河道帶來新的污染物質,受水體水質變化影響較大。
生物法:主要采用生物復合酶技術、微生物菌劑等。雖然此方法投資較小,運營成本低,但此法受水體中溶解氧的限制,處理效果較差。
發明內容
為解決上述技術問題,本發明目的是提供應用膜處理與富氧裝置進行黑臭河道處理的系統。
本發明的方案如下:
應用膜處理與富氧裝置進行黑臭河道處理的系統,污水依次經過污水預處理、兼氧塘沉淀、一體化膜處理器處理以及污水進入流動河道后通過高濃度曝氣裝置進行河道黑臭物質反應處理:其中,
S1:污水預處理:在污水進入河道的端部設置有一條或者多條溝槽,在溝槽出水端的底面設置有逐層鋪設的砂石層;溝槽對污水中的顆粒狀污染物進行部分沉淀;砂石層表面會形成自然狀態的生物膜系統,對污水中的有機物進行去除,同時對氨氮也有一定的去除作用。
S2:兼氧塘沉淀:在溝槽出水端挖出兼氧塘,兼氧塘進水端設置有傾斜向下的砂石斜坡;兼氧塘的深度為1.2-2.5米,污水經過S1后進入兼氧塘,實現對污水中的有機物進行轉化。
S3:一體化膜處理器處理:兼氧塘內設置有提升泵,提升泵通過水管連接到一體化膜處理器上,所述一體化膜處理器上面設置有加藥箱和設備箱,設備箱內設置有自吸泵;自吸泵上設置有出水的水管;出水的水管出水端連接到流動河道;污水經過S2后通過提升泵提供的動力進入一體化膜處理器內進行處理,處理后的污水在自吸泵的作用下流入流動河道,加藥箱定期加藥對一體化膜處理器的膜進行清洗,保持膜的通透性。
S4:河道黑臭物質反應處理:所述流動河道的底部設置有曝氣管,所述曝氣管的另一端連接到高濃度曝氣裝置上;經過S3后的污水進入流動河道,在高濃度曝氣裝置的作用下促進流動河道底部的黑臭物質與氧氣的反應。
進一步的,所述砂石層的砂石粒徑為5-25毫米,砂石層為傾斜設置。
進一步的,所述砂石層的砂石粒徑為10-15毫米。
進一步的,所述兼氧塘的深度為1.5-1.8米,污水在兼氧塘中停留的時間大于等于7天。
進一步的,所述一體化膜處理器中的溶解氧為大于等于2mg/l,氣水比為8:1-12:1,污水在一體化膜處理器中停留時間為4.5-8.5小時。
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