[發明專利]一種高溫度輻射選擇性涂層

在審

• 申請號: 201610116183.2
• 申請日: 2016-03-01
• 公開（公告）號: CN105734565A
• 公開（公告）日: 2016-07-06
• 發明（設計）人: 張同偉;吳江洪;汪涌
• 申請（專利權）人: 江蘇貝德萊特太陽能科技有限公司
• 主分類號: C23C28/00
• 分類號: C23C28/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種高溫度輻射選擇性涂層，其特征在于：其包括吸收層、滲透層和粘結層，所述滲透層設置在吸收層上端，所述粘結層設置在吸收層下端，所述吸收層采用致密金屬氧化層，所述選擇層采用金屬氮化層。

2.根據權利要求書1所述的一種高溫度輻射選擇性涂層，其特征在于，所述粘結層采用樹脂與氧化物鍍膜后高溫燒結而成，燒結溫度不低于500℃。

3.根據權利要求書2所述的一種高溫度輻射選擇性涂層，其特征在于，所述粘接層樹脂采用環氧有機硅樹脂及其改性樹脂。

4.根據權利要求書2所述的一種高溫度輻射選擇性涂層，其特征在于，所述粘結層采用的氧化物為納米二氧化鈦、納米一氧化鈦、納米氧化鎂中的一種。

5.根據權利要求書1所述的一種高溫度輻射選擇性涂層，其特征在于，所述吸收層采用等離子電鍍法或等離子火焰噴涂法制備而成，所述吸收層的膜厚不小于100μm。

6.根據權利要求書5所述的一種高溫度輻射選擇性涂層，其特征在于，所述吸收層的致密金屬氧化層采用改性的納米氧化鋁。

7.根據權利要求書6所述的一種高溫度輻射選擇性涂層，其特征在于，所述納米氧化鋁的改性劑為納米氧化錫、納米二氧化鎢、納米鉻或納米氧化鉛中的一種或者幾種。

8.根據權利要求書1所述的一種高溫度輻射選擇性涂層，其特征在于，所述滲透層采用選擇性滲透膜，主要采用金屬氮化物溶液經浸漬提拉法后熱處理而成。

9.根據權利要求書1所述的一種高溫度輻射選擇性涂層，其特征在于，所述金屬氮化物主要采用W、Mo、Al、Cu、Au中任一種的氮化物。

10.一種高溫度輻射選擇性涂層的制備方法，其包括如下步驟：

(1)將待噴涂的不銹鋼基片處理采用20-50％的乙醇水溶液洗滌干凈，并晾干；

(2)在基片表面噴涂一層樹脂膜層，然后噴涂一層金屬氧化層，晾干后進行高溫燒結3-5h，然后自然冷卻，等到負載有粘結層的基片；

(3)在粘結層表面采用等離子電鍍法或等離子火焰噴涂法制備吸收層，得到厚度大于100μm的吸收層；

(4)在吸收層表面浸漬提拉一層選擇性滲透膜作為滲透層，熱處理后得到滲透效果良好的金屬氮化物滲透層。