[發明專利]一種用于大面積放射源均勻性測量的系統與方法

有效

• 申請號: 201610116084.4
• 申請日: 2016-03-01
• 公開（公告）號: CN105759302B
• 公開（公告）日: 2018-11-30
• 發明（設計）人: 林敏;陳義珍;姚艷玲;陳克勝;夏文;徐利軍;張衛東
• 申請（專利權）人: 中國原子能科學研究院
• 主分類號: G01T1/24
• 分類號: G01T1/24
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于大面積放射源均勻性測量的系統，其特征在于，該系統包括均勻性測量儀、多孔屏蔽體及固定支架，其中均勻性測量儀包括半導體探測器及控制器，對大面積放射源均勻性進行測量時，固定支架、多孔屏蔽體按照從上到下的順序覆蓋于大面積放射源上方；所述多孔屏蔽體上設置有若干個用于放射性測量的通孔，多孔屏蔽體的厚度大于被測放射性核素的射程，外觀尺寸不小于待測大面積放射源的活性區面積，材質為不銹鋼；半導體探測器的探頭為圓形，其大小與多孔屏蔽體上設置的通孔的大小相適應，可以對α或β核素進行自動或手動測量；固定支架位于多孔屏蔽體上方，其中心位置處設置有一個與多孔屏蔽體上設置的通孔相對應的孔道，該孔道的四周設置有支撐擋板，該擋板起到支撐及對周圍放射性屏蔽的作用。

2.根據權利要求1所述的一種用于大面積放射源均勻性測量的系統，其特征在于，所述多孔屏蔽體上設置的通孔的半徑為1cm。

3.根據權利要求1所述的一種用于大面積放射源均勻性測量的系統，其特征在于，所述多孔屏蔽體上設置的通孔的孔位為米字型。

4.利用權利要求1—3任一項所述的系統對大面積放射源均勻性測量的方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：

1)根據被測大面積放射源的核素類型，選擇半導體探測器的檔位為α或β測量檔；

2)設定時間，測量該半導體探測器的本底計數率；

3)根據大面積放射源的活性區面積，選擇外觀尺寸不小于該活性區面積的多孔屏蔽體，將其置于待測放射源上；

4)選擇多孔屏蔽體上的某個角上的一個空位為初始測量孔位，將固定支架置于該初始測量孔位上，將固定支架中心位置處的孔道對準該初始測量孔位，再將半導體式探測器置于固定支架的孔道上；

5)根據放射源的強度設置測量時間，將初始測量孔位的活度測量4～6次，記錄測量數據；

6)卸下半導體式探測器，將固定支架在多孔屏蔽體上平移，使固定支架中心位置處的孔道對準要測的下一個孔位，再將半導體式探測器置于固定支架上，直至全部孔位測量完畢；

7)計算各孔位下的平均計數率，同時計算總體平均值，并根據公式

計算均勻性。