[發(fā)明專利]用于使直線性加速器和磁共振成像設(shè)備彼此屏蔽的方法和裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610115787.5 | 申請日： | 2010-07-15 |
| 公開（公告）號： | CN105664378B | 公開（公告）日： | 2019-06-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | S·施瓦茲曼;G·登米斯特;J·F·登普希;J·L·帕特里克二世 | 申請（專利權(quán)）人： | 優(yōu)瑞技術(shù)公司 |
| 主分類號： | A61N5/10 | 分類號： | A61N5/10;A61B5/055;G01R33/28;G01R33/421;G01R33/48;G01R33/42 |
| 代理公司： | 北京派特恩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270 | 代理人： | 康艷青;姚開麗 |
| 地址： | 美國俄*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 線性 加速器 磁共振 成像 設(shè)備 彼此 屏蔽 方法 裝置 | ||
1.一種放射治療系統(tǒng)，所述放射治療系統(tǒng)包括：
磁共振成像(MRI)系統(tǒng)，所述磁共振成像系統(tǒng)包括相隔MRI磁隙的第一主MRI磁體和第二主MRI磁體，
其中所述第一主MRI磁體和所述第二主MRI磁體一起工作以生成磁場，所述磁場的至少一部分沿著第一縱軸延伸，所述第一縱軸延伸通過所述第一主MRI磁體和所述第二主MRI磁體的等中心；
機架，所述機架定位在所述MRI磁隙中，所述機架是圍繞所述第一縱軸可旋轉(zhuǎn)的；
直線粒子加速器，所述直線粒子加速器在離所述第一主MRI磁體和所述第二主MRI磁體的等中心一第一固定徑向距離處受到所述機架支承，所述直線粒子加速器沿著第二縱軸排列，并且被構(gòu)造來隨所述機架旋轉(zhuǎn)并且將輻射束導(dǎo)向所述第一主MRI磁體和所述第二主MRI磁體的等中心；以及
磁屏蔽罩，所述磁屏蔽罩在離所述第一主MRI磁體和所述第二主MRI磁體的等中心一第二固定徑向距離處受到所述機架支承，
其中所述磁屏蔽罩至少包括第一磁屏蔽殼體和定位于所述第一磁屏蔽殼體內(nèi)部的第二磁屏蔽殼體，所述第一磁屏蔽殼體至少部分包圍所述直線粒子加速器和所述第二磁屏蔽殼體。
2.如權(quán)利要求1所述的放射治療系統(tǒng)，其中當(dāng)所述直線粒子加速器圍繞所述第一縱軸旋轉(zhuǎn)時，所述第二縱軸延伸通過所述等中心。
3.如權(quán)利要求1所述的放射治療系統(tǒng)，其中當(dāng)所述直線粒子加速器圍繞所述第一縱軸旋轉(zhuǎn)時，所述第二縱軸保持與所述第一縱軸正交。
4.如權(quán)利要求1所述的放射治療系統(tǒng)，其中所述第一磁屏蔽殼體由包括鋼的材料形成。
5.如權(quán)利要求1所述的放射治療系統(tǒng)，其中所述第二磁屏蔽殼體與所述第一磁屏蔽殼體同軸。
6.如權(quán)利要求1所述的放射治療系統(tǒng)，其中所述第二磁屏蔽殼體沿著第三縱軸延伸，其中所述第二縱軸和所述第三縱軸共面。
7.如權(quán)利要求6所述的放射治療系統(tǒng)，還包括至少部分被第二磁屏蔽罩包圍的第二直線粒子加速器。
8.如權(quán)利要求1所述的放射治療系統(tǒng)，其中所述第二磁屏蔽殼體由包括鋼的材料形成。
9.如權(quán)利要求1所述的放射治療系統(tǒng)，其中所述第一磁屏蔽殼體和所述第二磁屏蔽殼體由各自的不同的鋼形成。
10.如權(quán)利要求1所述的放射治療系統(tǒng)，其中由所述第一主MRI磁體和所述第二主MRI磁體生成的磁場在離所述等中心一特定位置處轉(zhuǎn)向反方向，并且其中所述磁屏蔽罩從所述特定位置延伸。
11.如權(quán)利要求1所述的放射治療系統(tǒng)，其中所述磁屏蔽罩還包括線圈。
12.如權(quán)利要求11所述的放射治療系統(tǒng)，其中所述第一磁屏蔽殼體提供無源磁屏蔽，而所述線圈提供有源磁屏蔽。
13.如權(quán)利要求1所述的放射治療系統(tǒng)，其中所述機架是可與所述磁共振成像系統(tǒng)無關(guān)地圍繞所述第一縱軸旋轉(zhuǎn)的。
14.如權(quán)利要求1所述的放射治療系統(tǒng)，其中所述第一磁屏蔽殼體為圓柱形。
15.如權(quán)利要求1所述的放射治療系統(tǒng)，還包括附加磁屏蔽罩，所述附加磁屏蔽罩沿附加縱軸延伸，其中所述磁屏蔽罩和所述附加磁屏蔽罩分隔相同角度。
16.如權(quán)利要求1所述的放射治療系統(tǒng)，其中所述直線粒子加速器生成RF輻射，并且所述放射治療系統(tǒng)還包括RF屏蔽罩，所述RF屏蔽罩被配置成為所述磁共振成像系統(tǒng)屏蔽所述RF輻射的至少一部分。
17.如權(quán)利要求16所述的放射治療系統(tǒng)，其中所述RF屏蔽罩包括RF吸收材料。
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