[發(fā)明專(zhuān)利]控制方法、控制裝置及電子裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610115579.5 | 申請(qǐng)日： | 2016-02-29 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN105763799B | 公開(kāi)（公告）日： | 2018-12-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 吳磊 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 廣東歐珀移動(dòng)通信有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | H04N5/232 | 分類(lèi)號(hào)： | H04N5/232 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 黃瓊 |
| 地址： | 523859 廣東*** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 控制 方法 裝置 電子 | ||
1.一種控制方法，用于控制成像裝置，其特征在于，所述控制方法包括：
判斷步驟，判斷所述成像裝置是否處于微距拍攝模式；
第一控制步驟，在所述成像裝置處于所述微距拍攝模式時(shí)，控制所述成像裝置對(duì)焦以獲得對(duì)焦物距；
第二控制步驟，控制所述成像裝置對(duì)焦后在一次快門(mén)觸發(fā)信號(hào)下多次成像并測(cè)量每次成像時(shí)的測(cè)量物距；及
處理步驟，以所述測(cè)量物距最接近所述對(duì)焦物距的圖像作為清晰圖像。
2.如權(quán)利要求1所述的控制方法，其特征在于，所述對(duì)焦物距通過(guò)反差對(duì)焦模式、相位對(duì)焦模式及/或激光對(duì)焦模式獲得。
3.如權(quán)利要求1所述的控制方法，其特征在于，所述成像裝置包括激光測(cè)距裝置，所述測(cè)量物距由所述激光測(cè)距裝置獲得。
4.如權(quán)利要求1所述的控制方法，其特征在于，所述成像裝置包括激光測(cè)距裝置，所述控制方法包括：
控制所述激光測(cè)距裝置發(fā)射激光至被攝物；及
處理所述激光測(cè)距裝置接收的返回的所述激光以得到所述被攝物的所述對(duì)焦物距；
所述判斷步驟通過(guò)判斷所述對(duì)焦物距是否小于預(yù)定距離判斷所述成像裝置是否處于所述微距拍攝模式。
5.如權(quán)利要求1所述的控制方法，其特征在于，所述成像裝置包括激光測(cè)距裝置，所述控制方法包括：
控制所述激光測(cè)距裝置發(fā)射激光至被攝物；及
記錄所述激光測(cè)距裝置由發(fā)射所述激光至接收所述激光返回的時(shí)間；
所述判斷步驟通過(guò)判斷所述時(shí)間是否小于預(yù)定時(shí)間判斷所述成像裝置是否處于所述微距拍攝模式。
6.如權(quán)利要求1所述的控制方法，其特征在于，所述處理步驟包括：
比較所述測(cè)量物距與所述對(duì)焦物距并以所述測(cè)量物距中與所述對(duì)焦物距相差最小的圖像為所述清晰圖像。
7.一種控制裝置，用于控制成像裝置，其特征在于，所述控制裝置包括：
判斷模塊，所述判斷模塊用于判斷所述成像裝置是否處于微距拍攝模式；
第一控制模塊，所述第一控制模塊用于在所述成像裝置處于所述微距拍攝模式時(shí)，控制所述成像裝置對(duì)焦以獲得對(duì)焦物距；
第二控制模塊，所述第二控制用于控制所述成像裝置對(duì)焦后在一次快門(mén)觸發(fā)信號(hào)下多次成像并測(cè)量每次成像時(shí)的測(cè)量物距；及
第一處理模塊，所述第一處理模塊用于以所述測(cè)量物距最接近所述對(duì)焦物距的圖像作為清晰圖像。
8.如權(quán)利要求7所述的控制裝置，其特征在于，所述對(duì)焦物距通過(guò)反差對(duì)焦模式、相位對(duì)焦模式及/或激光對(duì)焦模式獲得。
9.如權(quán)利要求7所述的控制裝置，其特征在于，所述成像裝置包括激光測(cè)距裝置，所述測(cè)量物距由所述激光測(cè)距裝置獲得。
10.如權(quán)利要求7所述的控制裝置，其特征在于，所述成像裝置包括激光測(cè)距裝置，所述控制裝置包括：
第三控制模塊，所述第三控制模塊用于控制所述激光測(cè)距裝置發(fā)射激光至被攝物；及
第二處理模塊，所述第二處理模塊用于處理所述激光測(cè)距裝置接收的返回的所述激光以得到所述被攝物的所述對(duì)焦物距；
所述判斷模塊用于通過(guò)判斷所述對(duì)焦物距是否小于預(yù)定距離判斷所述成像裝置是否處于所述微距拍攝模式。
11.如權(quán)利要求7所述的控制裝置，其特征在于，所述成像裝置包括激光測(cè)距裝置，所述控制裝置包括：
第四控制模塊，所述第四控制模塊用于控制所述激光測(cè)距裝置發(fā)射激光至被攝物；及
第三處理模塊，所述第三處理模塊用于記錄所述激光測(cè)距裝置由發(fā)射所述激光至接收所述激光返回的時(shí)間；
所述判斷模塊用于通過(guò)判斷所述時(shí)間是否小于預(yù)定時(shí)間判斷所述成像裝置是否處于所述微距拍攝模式。
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