[發(fā)明專利]一種掩膜板修復(fù)裝置、修復(fù)方法及蒸鍍系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610115452.3
• 申請(qǐng)日: 2016-03-01
• 公開（公告）號(hào): CN105506548B
• 公開（公告）日: 2018-05-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 付文悅;崔偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種掩膜板修復(fù)裝置，其特征在于，所述掩膜板修復(fù)裝置包括修復(fù)器件和移動(dòng)機(jī)構(gòu)；

所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述修復(fù)器件在金屬掩膜板正對(duì)的區(qū)域內(nèi)、且在與所述金屬掩膜板平行的面內(nèi)移動(dòng)；

所述修復(fù)器件用于對(duì)所述金屬掩膜板上與所述修復(fù)器件相對(duì)的部分進(jìn)行修復(fù)；

所述修復(fù)裝置包括：圖像獲取裝置以及與所述圖像獲取裝置連接的顯示設(shè)備；

其中，所述圖像獲取裝置用于獲取所述金屬掩膜板上與所述圖像獲取裝置相對(duì)的部分的圖像，并發(fā)送給所述顯示設(shè)備；

所述顯示設(shè)備用于顯示所述圖像獲取裝置所獲取的圖像；

所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)還用于使得所述圖像獲取裝置在所述金屬掩膜板正對(duì)的區(qū)域內(nèi)、且在與所述金屬掩膜板平行的面內(nèi)移動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的修復(fù)裝置，其特征在于，所述修復(fù)器件包括：消磁器以及與所述消磁器連接的電流控制器；

所述電流控制器用于控制所述消磁器產(chǎn)生的磁場大小以及磁場變化頻率的高低。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的修復(fù)裝置，其特征在于，所述金屬掩膜板的輪廓為矩形，包括相鄰的第一邊和第二邊；

沿所述金屬掩膜板的第一邊，所述消磁器的長度大于或等于所述金屬掩膜板；沿所述金屬掩膜板的第二邊，所述消磁器的長度小于所述金屬掩膜板；

所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述修復(fù)器件沿所述第二邊的方向移動(dòng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的修復(fù)裝置，其特征在于，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括：第一絲杠和導(dǎo)向桿，所述第一絲杠和所述導(dǎo)向桿均與所述金屬掩膜板的第二邊平行，且所述第一絲杠與所述導(dǎo)向桿所確定的平面與所述金屬掩膜板平行，所述第一絲杠和所述導(dǎo)向桿均穿過所述消磁器。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的修復(fù)裝置，其特征在于，在所述修復(fù)器件包括消磁器的情況下，所述圖像獲取裝置設(shè)置在所述消磁器上，并可隨著所消磁器的移動(dòng)而移動(dòng)；

所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)還用于帶動(dòng)所述圖像獲取裝置在垂直于所述消磁器移動(dòng)的方向上移動(dòng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的修復(fù)裝置，其特征在于，所述修復(fù)器件包括：激光器，所述激光器用于向所述金屬掩膜板發(fā)射激光；

所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)具體用于驅(qū)動(dòng)所述激光器移動(dòng)至與所述顯示設(shè)備顯示的圖像對(duì)應(yīng)所述金屬掩膜板的正對(duì)位置處。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的修復(fù)裝置，其特征在于，所述修復(fù)裝置還包括激光控制器，所述激光控制器還用于控制所述激光器發(fā)出的激光強(qiáng)度。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的修復(fù)裝置，其特征在于，在所述修復(fù)器件包括消磁器的情況下，所述激光器設(shè)置在所述消磁器上，并可隨著所消磁器的移動(dòng)而移動(dòng)；

所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)還用于帶動(dòng)所述激光器在垂直于所述消磁器移動(dòng)的方向上移動(dòng)。

9.根據(jù)權(quán)利要求5或權(quán)利要求8所述的修復(fù)裝置，其特征在于，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括：導(dǎo)向槽和第二絲杠，所述導(dǎo)向槽設(shè)置在所述消磁器面對(duì)所述金屬掩膜板的表面上、其垂直于所述消磁器移動(dòng)的方向，所述第二絲杠設(shè)置在所述導(dǎo)向槽中，

所述第二絲杠與圖像獲取裝置和/或激光器連接。

10.一種蒸鍍系統(tǒng)，包括真空蒸鍍腔室以及位于所述蒸鍍腔室內(nèi)的蒸鍍?cè)春臀挥谒稣翦冊(cè)瓷戏降慕饘傺谀ぐ澹黄涮卣髟谟冢€包括權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的掩膜板修復(fù)裝置，其中，所述掩膜板修復(fù)裝置的修復(fù)器件位于所述蒸鍍腔室內(nèi)。