[發明專利]一種主控室內漏量測量方法在審
| 申請號: | 201610108927.6 | 申請日: | 2016-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN107132006A | 公開(公告)日: | 2017-09-05 |
| 發明(設計)人: | 韓麗紅;張淵;王雷;丘丹圭;徐偉祖;張雪平;梁雪飛;吳波;高琳鋒;張計榮 | 申請(專利權)人: | 中國輻射防護研究院 |
| 主分類號: | G01M3/20 | 分類號: | G01M3/20 |
| 代理公司: | 北京天悅專利代理事務所(普通合伙)11311 | 代理人: | 任曉航,馬皓 |
| 地址: | 030006 *** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 主控 室內 測量方法 | ||
技術領域
本發明屬于氣體檢測領域,具體涉及一種主控室內漏量測量方法,該方法可用于主控室無過濾器空氣內漏的測量,進而對主控室可居留性進行評價。
背景技術
核電廠主控室是關系到在正常及事故工況下核電廠運行控制的關鍵位置,因而保證主控室在正常及事故工況下的可居留性有著極其重要的意義。美國核電廠通用設計標準GDC-19要求:對于放射性測試,主控室運行人員的全身劑量應小于50mSv(身體其它部位應與此標準相當)或小于50mSv總有效劑量當量;對于火災或有害化學物質測試,設計要求是主控室運行人員應不喪失在主控室或備用控制臺控制反應堆的能力。
在以前核電廠的建造及運行過程中,認為維持主控室相對于其鄰近區域的微正壓即可。1991-2001年期間,美國對約30%的反應堆主控室進行了完整性測試,所有的主控室都進行了放射性運行模式的測試,同時還對一些主控室進行了有害化學物質測試,其中只有一個主控室滿足放射性測試的內漏量設計值,而其余所有主控室都不滿足有害化學物質測試模式的內漏量設計值。這些完整性測試經驗表明僅僅壓差測試對于檢驗主控室的完整性而言可能并不可靠。因此,美國核管會認為有必要建立完善的評價方法以對核電廠主控室完整性及可居留性進行評價并進而提出補救建議,而進行核電廠主控室完整性及可居留性評價的一個重要參數是進入主控室的無過濾空氣內漏量。截止2011年,美國絕大部分核電廠均已完成了主控室無過濾空氣內漏量測試工作。
目前,我國國家核安全局對核電廠主控室的可居留性內漏試驗沒有做強制性規定,但HAF103-2004《核動力廠運行安全規定》要求核電廠主控室及其周圍區域必須能保證廠區工作人員在事故工況下不會受到過量的輻射危害。而在評估主控室人員事故工況下的輻射劑量時,主控室內漏量是重要的前提條件。但是,現有主控室正壓試驗方法無法實現主控室內漏量的定量測量,事故工況下主控室人員的劑量評估缺乏有效的數據支撐。
發明內容
針對現有技術中存在的缺陷,本發明提供一種主控室內漏量測量方法,能夠高效、快速的測量無過濾空氣進入主控室的內漏量,進而可對主控室可居留性進行評價,保證主控室操作人員在事故工況下不喪失控制主控室的能力。
為達到以上目的,本發明采用的技術方案是:提供一種主控室內漏量測量方法,包括如下步驟:
1)通過注入裝置向主控室注入預先估算的示蹤氣體量,使主控室內示蹤氣體濃度很快接近預期的平衡濃度;
2)使用低流速示蹤氣體釋放裝置向主控室內釋放低濃度或小流量的示蹤氣體,保持注入的示蹤氣體維持濃度近乎不變;
3)通過測量儀器測量在給定時間內主控室示蹤氣體濃度的變化,計算示蹤氣體初始濃度與終了濃度的對數差并除以時間間隔即可得出主控室內漏率,再通過主控室內漏率與已知主控室自由容積的乘積獲得主控室內漏量。
進一步,步驟3)中,所述測量儀器為氣相色譜,利用氣相色譜中的電子捕獲檢測器測定示蹤氣體的濃度。
進一步,步驟1)中,示蹤氣體初始注入量,根據已知主控室自由容積與主控室內示蹤氣體目標濃度的乘積進行計算。
進一步,步驟1)中,所述示蹤氣體濃度是否達到平衡,通過下式進行判定,式中:Ttest為測試時長;Cfinal為在測試終了時主控室內示蹤氣體濃度;Cinitial為在測試開始時主控室內示蹤氣體濃度;qtracer為示蹤氣體流量;Vzone為主控室自由容積。
進一步,步驟2)中,所述釋放裝置包括氣體鋼瓶及與氣體鋼瓶連接的管線,所述管線上依次設有減壓閥、穩壓閥、穩流閥和流量計。
本發明的有益技術效果在于:
(1)能夠高效、快速的測量無過濾空氣進入主控室的內漏量,進而可對主控室居留性進行評價,確保主控室操作人員在事故工況下不喪失控制主控室的能力;
(2)通過采用對主控室空氣容積測量,進而解決了依照標準進行現場試驗的難題;
(3)適用的范圍廣,可用于核電廠、民用房間、工礦通風的工業應用領域及其它氣體泄露測量領域。
附圖說明
圖1是本發明釋放裝置的結構示意圖。
圖中:
1-氣體鋼瓶 2-減壓閥 3-穩壓閥 4-穩流閥 5-流量計
具體實施方式
下面結合附圖,對本發明的具體實施方式作進一步詳細的描述。
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