[發(fā)明專利]一種體繪制方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610108464.3
• 申請日: 2016-02-29
• 公開（公告）號: CN105701860A
• 公開（公告）日: 2016-06-22
• 發(fā)明（設計）人: 王燕妮
• 申請（專利權）人: 江蘇美倫影像系統(tǒng)有限公司
• 主分類號: G06T15/08
• 分類號: G06T15/08;G06T5/00
• 代理公司: 南京縱橫知識產(chǎn)權代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

1.一種體繪制方法，其特征在于，包括如下步驟：

A，通過CT掃描獲取二維斷層圖像；

B，對獲得的二維斷層圖像進行平滑去噪處理，去除圖像中的噪聲點；

C，對去噪后的圖像進分割處理，濾除無關背景部分，保留圖像中的有用部分；

D，采用改進的光線投射算法對三維體數(shù)據(jù)進行重建。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種體繪制方法，其特征在于，所述步驟B中對二維斷層圖 像進行平滑去噪處理的方法，包括如下步驟：

B1，使用改進的中值濾波算器對圖像進行濾波處理，除去圖像中的細小噪聲點；

B2，通過開運算去除圖像中的細小毛刺。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種體繪制方法，其特征在于，所述步驟C中對去噪后的圖 像進行分割處理的方法，包括如下步驟：

C1，使用Prewitt算子對圖像邊緣進行檢測；

C2，根據(jù)步驟C1獲得的圖像邊緣分割出圖像中的有用部分；

C3，濾除圖像中的無關的背景部分，減少待處理的數(shù)據(jù)量。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種體繪制方法，其特征在于，所述步驟D中改進的光線投 射算法，具體過程為：

D1，對原始圖像進行序列分割，得到分割后的二值圖像；

D2，以分割后的二值圖像為蒙板，對原始圖像進行蒙板處理，得到需繪制部分的圖像；

D3，構造層次包圍盒；

D4，進行光線投射處理。

5.根據(jù)權利要求2所述的一種體繪制方法，其特征在于，所述改進的中值濾波器為門限 遞推中值濾波器，過程為，對像素點f(x,y)在鄰域窗口內(nèi)求中值時，先對窗口內(nèi)的像素求均 值average，若像素點f(x,y)不大于均值average，則不進行濾波，若像素點f(x,y)大于均值 average，則用遞推法求中值g(x,y)，并用中值g(x,y)代替原來的像素點f(x,y)。

6.根據(jù)權利要求2所述的一種體繪制方法，其特征在于，所述利用開運算去除圖像中的 細小毛刺，過程為，先對圖像進行腐蝕處理，將細小毛刺清除，同時圖像邊緣內(nèi)縮，然后對 圖像進行膨脹處理，將圖像邊緣進行復原。