[發明專利]一種鍺晶體應力消除方法在審
| 申請號： | 201610105897.3 | 申請日： | 2016-02-26 |
| 公開（公告）號： | CN105603534A | 公開（公告）日： | 2016-05-25 |
| 發明（設計）人： | 呂遠芳 | 申請（專利權）人： | 呂遠芳 |
| 主分類號： | C30B33/02 | 分類號： | C30B33/02;C30B29/08 |
| 代理公司： | 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 湯東鳳 |
| 地址： | 072200 河北省*** | 國省代碼： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 晶體 應力 消除 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種鍺晶體應力消除方法，其特征在于，包括如下步驟：
A、對鍺晶體進行清洗；采用30℃的純水進行表面清洗，然后用清洗機再次清洗，待鍺晶體表面溫度達到20-30℃時，用酒精擦拭鍺晶體表面；
B、將晶體放入晶體退火爐內的坩堝，用真空泵將退火爐內的氣壓抽至5Pa以內，然后給退火爐充入惰性氣體；
C、采用歐陸表對退火爐內溫度進行升溫和降溫控制，首先從常溫以每分鐘0.45℃的升溫速度升至500℃，然后在00℃下恒溫保持10小時，然后再以每分鐘0.4℃的降溫速度降至常溫。
2.根據權利要求1所述的鍺晶體應力消除方法，其特征在于：所述惰性氣體為消除方法。
3.根據權利要求1所述的鍺晶體應力消除方法，其特征在于：所述退火爐包括設置于所述退火爐內的采用圓柱形石墨加熱器形成的環形熱場，所述熱場直徑為600mm,高度為510mm。
4.根據權利要求3所述的鍺晶體應力消除方法，其特征在于：所述坩堝為石墨承托坩堝，其直徑為530mm，高為210mm，放置于熱場中心。
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