[發明專利]一種涂膠裝置及具有該涂膠裝置的納米壓印設備

有效

• 申請號: 201610105073.6
• 申請日: 2016-02-25
• 公開（公告）號: CN105597988B
• 公開（公告）日: 2018-04-10
• 發明（設計）人: 王亮;談浩森;汪仲儒;許凱;張博健;李晨暉
• 申請（專利權）人: 中國科學技術大學
• 主分類號: B05C1/12
• 分類號: B05C1/12;B05C11/02;B05C11/04;B05C11/10
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司11227
• 代理人: 羅滿

技術領域

本發明涉及納米加工技術領域，更具體地說，涉及一種涂膠裝置。此外，本發明還涉及一種包括上述的涂膠裝置的納米壓印設備。

背景技術

納米壓印光刻利用傳統機械模具微復型原理，代替包括光學、化學及光化學反應機理的傳統投影光刻。其工作原理是通過模具下壓，導致光刻膠流動并填充到模具表面的特征結構中，隨后增大模具下壓載荷，使殘留層減薄到后續工藝允許的范圍內，停止模具下壓并固化光刻膠。

現有技術中，納米光刻壓印光刻技術包括滾動型納米壓印裝置和平板對輥型納米壓印裝置，二者在使用時，均需要使用納米壓印膠涂布裝置將光刻膠涂覆在設備上。常見的涂覆裝置上通過輥子在盛有光刻膠的容器中滾動并沾取一定的光刻膠，將光刻膠傳遞給傳遞帶后，最終由傳遞帶將光刻膠傳遞到工作區域，在傳遞帶或工作區域部分設置有用于調整光刻膠用量的刮墨刀。然而，現有技術的缺點是刮墨刀的刮取量固定，刮墨刀裝配完成后，難以根據實際納米壓印工藝需求調節膠層的厚度。

綜上所述，如何提供一種膠層厚度可調節的涂膠裝置，是目前本領域技術人員亟待解決的問題。

發明內容

有鑒于此，本發明的目的是提供一種涂膠裝置，該涂膠裝置的光刻膠刮取量可調節，適用于多種壓印情況。本發明的另一目的是提供一種包括上述涂膠裝置的納米壓印設備。

為了實現上述目的，本發明提供如下技術方案：

一種涂膠裝置，包括用于沾取光刻膠的取膠輥和用于將所述取膠輥上的光刻膠轉移到材料上的轉移輥，所述取膠輥和所述轉移輥可沿自身軸線轉動的平行設置在支撐架上，所述支撐架上還設置有用于調整所述取膠輥和所述轉移輥之間接觸緊密程度的微調件。

優選的，所述微調件為設置在所述支撐架的通孔中的螺旋微調件，所述螺旋微調件設置在所述轉移輥的端部。

優選的，所述支撐架上設置有刮墨刀架支撐架，所述刮墨刀架支撐架通過楔形的墊片與刮墨刀架連接，所述墊片用于調整所述刮墨刀架支撐架與所述刮墨刀架的角度，所述刮墨刀架上設置有刮墨刀。

優選的，所述支撐架通過直線平移臺與所述刮墨刀架支撐架連接，所述直線平移臺包括上平臺和可與所述上平臺水平相對移動并固定的下平臺，所述下平臺與所述支撐架固定，所述上平臺與所述刮墨刀架支撐架固定。

優選的，所述上平臺和所述下平臺中的一者為楔形平臺，另一者與所述楔形平臺的楔形面貼合設置。

優選的，所述刮墨刀為鋁片刮墨刀。

優選的，所述取膠輥和所述轉移輥的端部均固定設有傳遞齒輪，所述取膠輥與所述驅動電機傳動連接，所述轉移輥的傳遞齒輪與所述取膠輥的傳遞齒輪嚙合。

優選的，還包括用于分別控制所述取膠輥和所述轉移輥轉速的控制裝置，所述控制裝置通過驅動電機分別與所述取膠輥、所述轉移輥連接。

一種納米壓印設備，包括納米壓印頭和涂膠裝置，所述涂膠裝置為上述任意一項所述的涂膠裝置。

本發明提供的裝置中，用于沾取光刻膠的取膠輥和用于轉移光刻膠的轉移輥可轉動的平行設置在支撐架上，且取膠輥和轉移輥之間的間距和接觸緊密程度可以通過微調件進行調整。當取膠輥轉動地將光刻膠傳遞給傳遞輥的過程中，取膠輥與傳遞輥的間距直接影響傳遞的光刻膠量。通過用微調件控制二者的接觸緊密程度，實現對光刻膠傳遞量的控制，合理控制光刻膠量的同時，節省了材料。

本發明還提供了一種包括上述涂膠裝置的納米壓印設備，該設備由于設置了上述涂膠裝置，可以實現光刻膠量的可控設置和合理配置。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據提供的附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明所提供涂膠裝置的具體實施例的結構示意圖；

圖2為本發明所提供涂膠裝置的具體實施例的右視圖；

圖3為本發明所提供涂膠裝置的具體實施例的正視圖；

圖4為本發明所提供涂膠裝置的具體實施例的另一個角度的結構示意圖。

上圖1-4中：

1為支撐架、2為取膠輥、3為轉移輥、4為材料輥、5為傳動齒輪、6為電機支撐架、7為伺服電機、8為膠盒、9為直線平移臺、10為刮墨刀架支撐架、11為刮墨刀架、12為微調螺栓。

具體實施方式