[發明專利]一種玻璃制品及其制備方法在審
| 申請號: | 201610104770.X | 申請日: | 2016-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN107117829A | 公開(公告)日: | 2017-09-01 |
| 發明(設計)人: | 周群飛;饒橋兵;聶崇彬 | 申請(專利權)人: | 藍思科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/34 | 分類號: | C03C17/34 |
| 代理公司: | 長沙七源專利代理事務所(普通合伙)43214 | 代理人: | 歐穎 |
| 地址: | 410329 湖南*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 玻璃制品 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明涉及玻璃制品及其制備方法,具體涉及一種含超硬膜層的電子產品玻璃屏幕及其制備方法。
背景技術
現今在應用中對電子產品的屏幕性能(高增透、抗劃傷、耐摩擦等)要求越來越高,而目前市面上可見的含普通AR增透膜的玻璃制品,通過鉛筆硬度測試發現,其硬度均在5H、6H、7H之間徘徊。
本領域中含有在鋼化玻璃基體上真空濺射氧化鈦、氧化硅和/或氧化鋯膜層而制備含膜層的玻璃屏幕。如專利CN 201020581412.6公開了一種增透膜玻璃,包括玻璃基板以及在玻璃基板表面吸附有的一層氧化鈦硅層。該專利在生產中能有效地提高產品的生產效率和合格率,不易受到生產工具以及夾具的影響、一次性完成,能極大地降低生產成本。而專利CN 201020581325.0公開了一種防污玻璃,包括玻璃基板、在玻璃基板表面的羥基化層以及鍍在羥基化層上的氟化物層。該專利在普通玻璃表面通過羥基化層鍍有一層氟化物膜,因為羥基化層中的羥基與氟化物層結合的是比范德華力強的氫鍵。因此該專利具有長時間使用表面的氟化物膜(防污膜)不易脫落的優點。但這樣的玻璃制品的硬度一般只能達到5H~7H之間,即使在其上蒸鍍AF膜,所得玻璃制品的表面硬度也一般不超過8H,更不可能實現硬度穩定地保持在9H以上。另外也有在鋼化玻璃基體上鍍氟化鎂層的技術,但這樣的膜層容易吸潮脫落,因而難于實際應用,且其玻璃制品的表面硬度同樣無法達到穩定地大于9H。
為了滿足這些越來越苛刻的需求,解決因屏幕硬度不夠而導致的劃傷及反光等問題,本領域需要開發一種含超硬AR增透膜的玻璃制品以滿足市場需求。
發明內容
本發明的目的是開發出一種表面硬度測試結果穩定地≥9H的含超硬AR增透膜的玻璃制品以滿足市場需求。
本發明提供一種玻璃制品,在厚度方向上依次包括鋼化玻璃基體、硅化合物膜層和AF膜層,所述硅化合物膜層包含交替排列的氮化硅膜層和氧化硅膜層,且氮化硅膜層和氧化 硅膜層的數量均為兩層或以上。
本發明中,硅化合物膜層和AF膜層在鋼化玻璃基體上共同形成超硬AR(防反光)增透膜層,使得本發明提供的玻璃制品的表面硬度可以穩定地達到9H以上。本發明突破性地得到了表面硬度可以穩定地達到9H以上的玻璃制品,而現有技術中玻璃制品的表面硬度一般為5H~7H,即使偶有達到8~9H的檢測數據,也并不能得到穩定的硬度檢測數據。因此,本發明取得的玻璃表面硬度效果是現有技術中不能企及的。
本領域技術人員可知的,AF膜又名AS膜,即高透防指紋AF膜,其制備技術已在本領域中廣泛應用。本發明中,所述氮化硅膜層以硅板和氮氣為原料在真空濺射鍍膜機中完成鍍膜,所述氧化硅膜層以硅板和氧氣為原料在真空濺射鍍膜機中完成鍍膜。在真空濺射鍍膜機中可通過先充氮氣再充氧氣而一次形成一層氮化硅膜層和一層氧化硅膜層。
本領域技術人員能理解地,所述鋼化玻璃基體即本領域常用的玻璃基片,其使用安全,玻璃破碎后碎片會形成類似蜂窩狀的鈍角碎小顆粒,不易對人體造成嚴重傷害。鋼化玻璃基體可以通過本領域公知的方法獲取,或者直接商購。且所述鋼化玻璃基體可以是平面玻璃或曲面玻璃,這在本發明中不受限制。
在一種具體的實施方式中,所述玻璃基體的厚度為0.2~1.5mm,優選0.3~0.9mm;所述氮化硅膜層和氧化硅膜層的厚度均為5~200nm,優選10~100nm;所述AF膜層的厚度為5~100nm,優選10~20nm。
在一種具體的實施方式中,所述硅化合物膜層中氮化硅膜層和氧化硅膜層的總層數為6層或7層,且鄰接AF膜層的一層(鍍設的最后一層)為氧化硅膜層。本發明中,氮化硅膜層21和氧化硅膜層22的總數量為4~9層均為常用方式,但硅化合物膜層的總數較少,如4層時,能維持高透過率的波段范圍較窄。因而可根據不同產品要求來設計硅化合物膜層的子層數,例如要求對于420~680nm波段的透光率均保持在97.5%時,所述硅化合物膜層的總子層數以6層為最佳。本領域技術人員可以理解地,鄰接鋼化玻璃基體的一層可以是氮化硅膜層或氧化硅膜層,這在本發明中不受限制。
優選地,鄰接玻璃基體的一層為第一氮化硅膜層,且其厚度為5~23nm,優選10~20nm。本申請的發明人通過實驗發現,該氮化硅膜層的厚度超過23nm則會使得玻璃制品反光較強,透光性較差。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于藍思科技股份有限公司,未經藍思科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610104770.X/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





