[發明專利]一種連續太赫茲目標散射測量控制系統有效
| 申請號: | 201610104496.6 | 申請日: | 2016-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN105676214B | 公開(公告)日: | 2017-12-15 |
| 發明(設計)人: | 李琦;樊長坤;周毅;趙永蓬;陳德應 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號: | G01S13/02 | 分類號: | G01S13/02;G01S7/02 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標事務所23109 | 代理人: | 楊立超 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 連續 赫茲 目標 散射 測量 控制系統 | ||
1.一種連續太赫茲目標散射測量控制系統,其特征在于,所述控制系統包括:位移臺控制模塊、采樣控制模塊和數據存儲模塊,
位移臺控制模塊,用于控制計算機通過USB口與電位移控制箱的連接,實現對三個位移臺:X軸平動臺、Y軸轉動臺、Z軸平動臺的控制;位移臺控制模塊包括手動調節子模塊和自動測量子模塊;
手動調節子模塊,用于用戶通過手動調節利用位移臺來控制待測物和校準物的位置,所述Y軸轉動臺位于X軸平動臺的上方,將所述待測物置于Y軸轉動臺上,所述校準物置于Z軸平動臺上;經調節后確定自動測量子模塊進行自動測量時需要輸入的參數:“X軸平移量”、“Z軸平移量”、“Y軸轉動角度”和“Y軸轉動次數”,即:X軸平動臺的平移量、Z軸平動臺的平移量、Y軸轉動臺的轉動角度、Y軸轉動臺的轉動次數;
自動測量子模塊,用于自動采集預設次數的待測物和校準物的散射回波信號的峰峰值;
采樣控制模塊,用于采集待測物、校準物在太赫茲頻段下照射的散射回波信號,以及用于設置采集參數:斬波器頻率、采樣間隔、采樣倍率、電壓幅值、測量次數及等待時間;
數據存儲模塊,用于將采樣的得到的數據以ASCII碼的形式保存成一個dat文件,其中所采集的散射回波信號峰峰值會以矩陣形式保存,其文件名為“peak+‘進行采樣時的時間’”,通過所采集的數據算得的平均值和標準差的文件名為“ave&SD+‘進行采樣時的時間’”,待測物和校準物的比值的文件名為“ratio+‘進行采樣時的時間’”。
2.根據權利要求1所述的一種連續太赫茲目標散射測量控制系統,其特征在于:所述在手動調節子模塊的界面進行手動調節過程中,通過單選按鈕來選擇要控制的坐標軸,通過“前進”和“后退”按鈕來實現對位移臺的前進和后退運動的控制,且位移臺的實時坐標會同步顯示;對于每個位移臺都有三種歸零方式,分別是:“負限位歸零”、“光學歸零”、“用戶原點歸零”;當用戶調節好位置后可以通過點擊“當前位置設為用戶原點”按鈕來將此時位移臺的位置設為用戶原點,以后再對位移臺進行移動后,可通過點擊“用戶原點歸零”來回到此時調節好的位置。
3.根據權利要求1或2所述的一種連續太赫茲目標散射測量控制系統,其特征在于:所述采樣控制模塊通過數據采集卡實現采集待測物、校準物在太赫茲頻段下照射的散射回波信號;斬波器頻率是指將要采集信號的頻率,即信號周期的倒數;斬波器頻率乘以采樣倍率即為采樣頻率;
采樣控制模塊對散射回波信號的5個周期進行采樣,然后從所有數據中取最大值與最小值的差求得一個峰峰值,“測量次數”是指對信號采集的次數,即峰峰值的個數;“電壓幅值選擇”是下拉列表,包括“+/-10V”、“+/-5V”、“+/-2.5V”、“+/-1.25V”、“+/-625 mV”、“0~10V”、“0~5V”、“0~2.5V”、“0~1.25V”;“等待時間”是指當位移臺運動到指定位置停止后,等待相應的時間再進行采樣;“采樣間隔”是指兩次采樣之間所經歷的時間。
4.根據權利要求3所述的一種連續太赫茲目標散射測量控制系統,其特征在于:所述自動測量子模塊用于在設定完所述需要輸入的參數參數后,點擊自動測量子模塊界面上“自動測量”按鈕后會自動執行以下過程:將校準物平移“Z軸平移量”到探測位置進行測量;將校準物沿反方向平移“Z軸平移量”移出探測位置;將待測物平移“X軸平移量”到探測位置進行測量;將待測物旋轉“Y軸轉動角度”進行測量;將待測物沿反方向平移“X軸平移量”移出探測位置;將校準物平移“Z軸平移量”到探測位置進行測量;將校準物沿反方向平移“Z軸平移量”移出探測位置;將待測物平移“X軸平移量”到探測位置;將待測物旋轉“Y軸轉動角度”進憲測量;如此循環,循環次數為“Y軸轉動次數”;使每測2次不同角度的待測物,就對校準物的測量1次,測量得的校準數據既可以校準前一次待測物的測量數據,也可以校準后一次待測物的測量數據。
5.根據權利要求4所述的一種連續太赫茲目標散射測量控制系統,其特征在于:所述自動測量子模塊還用于在整個測量過程結束后,用戶可對參數進行修改或直接進行下一次測量;在進行下次測量前要清空數據;還用于對測量過程的中止操作。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于哈爾濱工業大學,未經哈爾濱工業大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610104496.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





