[發明專利]一種中溫燒結高頻介質陶瓷電容器材料在審
| 申請號: | 201610098246.6 | 申請日: | 2016-02-23 |
| 公開(公告)號: | CN105777100A | 公開(公告)日: | 2016-07-20 |
| 發明(設計)人: | 李玲霞;張帥;呂笑松;孫正;張寧 | 申請(專利權)人: | 天津大學 |
| 主分類號: | C04B35/447 | 分類號: | C04B35/447;C04B35/64;H01G4/12 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201 | 代理人: | 張宏祥 |
| 地址: | 300072*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 燒結 高頻 介質 陶瓷 電容器 材料 | ||
技術領域
本發明屬于一種以成分為特征的陶瓷組合物,特別涉及一種新型中溫燒結高頻介質陶 瓷材料及制備方法。
背景技術
隨著電子信息技術的突飛猛進,電子產品正朝著輕量薄型化、高性能和多功能化的方 向發展。進入21世紀以來,特別是近幾年,超大規模集成電路器件的集成度越來越高。當 器件的特征尺寸逐漸減小時即集成度不斷提高時,會引起電阻-電容(RC)延遲上升,從而 出現信號傳輸延時、噪聲干擾增強和功率損耗增大等一系列問題,這將極大限制器件的高 速性能。降低RC延遲和功率損耗有兩個途徑,一是降低導線電阻R,另外一個同時也是更 重要的是降低介質層帶來的寄生電容C。由于電容C正比于介電常數εr,所以就需要開發 新型、低成本以及具有良好性能的低介電常數材料。
Mg3P2O8二元體系之前一直作為一種光電材料來展開研究,然后從而未有人報道過其在 高頻乃至微波頻段下的介電性能。經過實驗研究發現該體系具有燒結溫度低(~1050℃)、 低介電常數(~6)、損耗低(≤2x10-3),并且其固有介電常數溫度系數較低。然而,該體系 的燒結溫度并不能應用于低溫共燒陶瓷(LTCC)的制備,為滿足實際應用,進一步降低體系 的燒結溫度,大大降低多層器件的成本,成為研究者努力的方向。
發明內容
本發明的目的,是制備出一種高頻低介電常數陶瓷電容,滿足市場需求,提供一種新 型中溫燒結高頻介質陶瓷電容器及其制備方法。
本發明通過如下技術方案予以實現。
.一種中溫燒結高頻介質陶瓷電容器材料,其化學式為Mg3P2O8。
上述中溫燒結高頻介質陶瓷電容器材料的制備方法,具有如下步驟:
(1)將原料MgO、(NH4)H2PO4按Mg3P2O8化學式稱量配料;
(2)將步驟(1)配制的粉料放入球磨罐中,加入氧化鋯球和去離子水,球磨4小時;將 球磨后的原料置于紅外干燥箱中烘干,烘干后過40目篩,獲得顆粒均勻的粉料;
(3)將步驟(2)處理后的粉料于850℃下煅燒4小時,合成主晶相;
(4)在步驟(3)合成主晶相后的粉料中外加質量百分比為5%的聚乙烯醇,放入球磨罐 中,加入氧化鋯球和去離子水,球磨12小時,烘干后過80目篩,再用粉末壓片機以4MPa 的壓力成型為坯體;
(5)將步驟(4)成型后的坯體于1000~1075℃燒結,保溫4小時,制成中溫燒結高頻介 質陶瓷材料。
所述步驟(2)和步驟(4)的烘干溫度為100℃。
所述步驟(2)和步驟(4)的陶瓷粉體與氧化鋯球、去離子水的質量比為1∶1∶2。
所述步驟(4)的坯體為Φ10mm×1mm的圓片。
所述步驟(4)的粉末壓片機的成型壓力4Mpa。
所述步驟(5)的燒結溫度為1050℃,保溫時間為4h。
本發明的有益效果如下:
提供了一種新型中溫燒結高頻介質陶瓷材料,制得的Mg3P2O8材料,具有較低的燒結 溫度(1000~1075℃),較低介電常數(5.4~6.2),較低損耗值(15~20×10-4),較小的電容 量溫度系數(40×10-6/℃~170×10-6/℃),進一步彌補了市場上低介電常數電容器的空缺。
具體實施方式
下面通過具體實施例對本發明作進一步說明,實例中所用原料均為市售分析純試劑, 具體實施例如下。
實施例1
(1)將原料MgO、(NH4)H2PO4按Mg3P2O8化學式稱量配料;
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