[發明專利]一種具有石墨烯保護膜的鎂合金及其制備方法在審
| 申請號: | 201610096490.9 | 申請日: | 2016-02-22 |
| 公開(公告)號: | CN105603393A | 公開(公告)日: | 2016-05-25 |
| 發明(設計)人: | 張利強;李永峰 | 申請(專利權)人: | 中國石油大學(北京) |
| 主分類號: | C23C16/513 | 分類號: | C23C16/513;C23C16/26;C23C16/02 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 姚亮;沈金輝 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 具有 石墨 保護膜 鎂合金 及其 制備 方法 | ||
1.一種具有石墨烯保護膜的鎂合金的制備方法,該方法包括以下步驟:
表面清潔步驟:除去鎂合金的表面污漬及鈍化膜;
形成預保護膜步驟:將經過表面清潔處理的鎂合金用預保護劑進行浸漬,在鎂合 金表面形成預保護膜,所述預保護劑為聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷或聚碳酸 酯與溶劑配置成的高分子溶液,或者為聚二甲基硅氧烷液體;
去除預保護膜步驟:將形成預保護膜的鎂合金放入等離子增強化學氣相沉積反應 室中進行熱處理,去除表面的預保護膜;
沉積石墨烯保護膜步驟:采用等離子增強化學氣相沉積法沉積石墨烯保護膜,得 到具有石墨烯保護膜的鎂合金。
2.根據權利要求1所述的方法,其中,在沉積石墨烯保護膜步驟前,還包括沉 積輔助層步驟:在已去除預保護膜的鎂合金件上沉積Cu層或Ni層。
3.根據權利要求2所述的方法,其中,在所述沉積輔助層步驟中,Cu層或Ni 層的厚度為5-100nm。
4.根據權利要求1所述的方法,其中,所述表面清潔步驟中,具體操作是將鎂 合金件進行拋光處理及酸堿清洗;
拋光處理中,選用500-2000號砂紙進行打磨;
酸堿清洗中,先進行稀酸清洗然后進行稀堿清洗最后用清水洗5-10遍,稀酸清 洗的條件為選用pH為4-5的稀鹽酸溶液或稀硝酸溶液清洗5-30分鐘,稀堿清洗的條 件為選用pH為8-10的氫氧化鈉溶液或氫氧化鉀溶液清洗5-30分鐘。
5.根據權利要求1所述的方法,其中,所述形成預保護膜步驟中,所述高分子 溶液的質量百分比濃度為5wt%-80wt%,溶劑包括苯酚、二氯甲烷、苯甲醚或氯仿;
優選地,在所述形成預保護膜步驟中,浸漬的條件為:在常溫下浸泡5-30分鐘;
進一步優選地,在所述去除預保護膜步驟中,熱處理的條件為:在200-500℃下 加熱10-30分鐘,反應室內為真空狀態或充有惰性氣體進行保護。
6.根據權利要求1-5任意一項所述的方法,其中,所述沉積石墨烯保護膜步驟 具體包括:
向離子增強化學氣相沉積的反應室內通入濃度為99.999%的高純氬氣,采用射頻 磁控濺射的方法產生等離子體,頻率為100-13.56MHz、功率為10-300W、氣壓為 0.1-100Torr;
然后分別以30-70sccm/min和400-600sccm/min的速率向反應室內通入氫氣和氮 氣;以30-40sccm/min的速率向反應室中通入經過CH4,使石墨烯在鎂合金件表面或 輔助層表面進行生長;在石墨烯的生長過程中,將反應室加熱至350-700℃,CH4的 通入時間為4-20分鐘;
石墨烯生長結束后,將反應室的溫度降至室溫。
7.根據權利要求6所述的方法,其中,在石墨烯的生長過程中,反應室加熱的 速率為12℃/min;
優選地,石墨烯生長結束后,反應室降溫的速率為10℃/min。
8.根據權利要求1-7任意一項所述的方法,其中,在所述沉積石墨烯保護膜步 驟中,石墨烯保護膜包括1-10層石墨烯層;
優選地,重復實施所述沉積石墨烯保護膜步驟,以形成2-5層石墨烯保護膜。
9.權利要求1-8任意一項所述的方法制得的具有石墨烯保護膜的鎂合金。
10.根據權利要求9所述的具有石墨烯保護膜的鎂合金,其中,所述鎂合金包括: 鎂鋁合金、鎂錳合金或鎂鋅鋯合金。
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C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





