[發明專利]一種活性陶瓷的制備方法及其作用使水中引起低溫融核反應的設備

在審

• 申請號: 201610091567.3
• 申請日: 2016-02-18
• 公開（公告）號: CN105669162A
• 公開（公告）日: 2016-06-15
• 發明（設計）人: 金日光;方厲遠
• 申請（專利權）人: 金日光;方厲遠
• 主分類號: C04B33/13
• 分類號: C04B33/13;C03C8/00;C04B41/50;C02F1/461
• 代理公司: 北京紐盟知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11456
• 代理人: 許玉順

1.一種活性陶瓷的制備方法，其中，該方法包括以下步驟：

步驟A：分別將鉀長石、鈉長石、砭石、瑪瑙、莫來石、方鎂石、 方解石、螢石、石英石、麥飯石、電氣石在840-860℃下煅燒3.5-4.5h， 并冷卻至常溫后研磨，過90-120目篩，備用；

步驟B：分別將高嶺土、膨潤土、粘土分別在620-650℃煅燒 3.5.-4.5h，并冷卻至常溫后研磨，過90-120目篩，備用；

步驟C：按重量計，取高嶺土11-13％，粘土31-33％，膨潤土8-10％ 作為瓷泥原料石英石9-10％，鈉長石4-6％，骨粉7-10％，莫來石2.5-3.5％, 電氣石8-8.5％，麥飯石5-5.5％，稀士元素3.2-4.5％，投進球磨機，加 瓷泥原料總重量的80-100％的水，進行研磨30-36h，再靜置24h，除去 水中漂浮物，再采用磁鐵除雜，然后除水壓泥，練泥至泥料含水重量 百分比為15-18％，制成瓷泥；

步驟D：按重量計，取高嶺土3-3.5％，膨潤土7.5-8.5％，鉀長石 30-35％，方解石5-6.5％，氧化鋅8-9.5％，碳酸鋇3.2-4.5％，三氧化鈦 1.5-2.％，石英石6.8-7.5％，熔塊2.5-3％，碳酸鋰4-5.5％，螢石 4.5-5.5％，稀土元素5.5-6.8％，電氣石12.8-13.2％，遠紅外粉 2.5-3.5％、納米銀離子1-1.5％作為瓷釉原料，投進球磨機，加瓷釉原 料總重量的80-100％的水，進行研磨30-36h，再凈置24h，除去水中漂 浮物，再采用磁鐵除雜，然后除水壓泥，練泥至泥料含水重量百分比 為15-18％，制成瓷釉；

步驟E：將所述瓷泥按傳統陶瓷生產方法進行成型、干燥，再在 840-860℃下素燒2.5-3.h，并自然冷卻至常溫，得到素燒產品；

步驟F：采用所述瓷釉給所述素燒產品進行施釉，然后置于窯爐中 進行燒成。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述常溫為 20-35℃。

3.根據權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于：還包括選 自以下成分的至少一種以上成分：遠紅外粉、負離子粉、鍺粉、稀土 鑭、麥飯石、木魚石、托瑪琳石粉。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的制備方法，其特征在于： 所述遠紅外粉至少包括以下成分中至少一種以上，Si、Ai、K、Na、Fe、 Ti、Mg、C、SiO₂、Al₂O₃、Fe₂O₃、K₂O、NA₂O、MnO、CaO、MgO、P₂O₅、 Ge₁₀^-6、TiO₂、ZnO、Mo、Se。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的制備方法，其特征在于： 所述稀土元素為釔或釹。

6.一種水中引起低溫融核反應的反應設備，其特征在于：采用權 利要求1至5中任一項所述的制備方法制備得到，其為中空結構，底 部為正方形結構，斜面與底面相交的角度為52度，斜邊與底邊的比例 為0.95～0.97。

7.根據權利要求6所述的反應設備，其特征在于：其活性陶瓷的 壁面厚度為1～5lm。

8.根據權利要求6所述的反應設備，其特征在于：所述中空結構 中包含直徑為0.5～0.8cm的球狀陶瓷或小型金字塔狀陶瓷。

9.根據權利要求8所述的反應設備，其特征在于：所述小型金字 塔狀陶瓷為中空結構，底部為正方形結構，斜面與底面相交的角度為 52度，斜邊與底邊的比例為0.95～0.97。

10.一種水中引起低溫融核反應的反應設備在水的活性化處理中 的應用。