[發(fā)明專利]一種均流裝置及反應(yīng)腔室有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610090878.8 | 申請(qǐng)日: | 2016-02-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107090575B | 公開(公告)日: | 2019-04-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王福來 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/455 | 分類號(hào): | C23C16/455 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;張?zhí)焓?/td> |
| 地址: | 100176 北*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 裝置 反應(yīng) | ||
1.一種均流裝置,包括射頻蓋和噴淋盤,所述射頻蓋包括固定連接于一體的上下兩部分,其上部為圓盤狀的第一本體,其下部為環(huán)狀的第一連接部,所述第一連接部的外徑小于所述第一本體的直徑,所述噴淋盤包括固定連接于一體的上下兩部分,其上部為環(huán)形的第二連接部,其下部為圓盤狀的第二本體,所述第二連接部的外徑大于所述第二本體的直徑,其特征在于:
所述第一連接部與所述第二連接部分別在其各自的外側(cè)壁上沿周向設(shè)置有相互配合的卡合部件,以使所述射頻蓋和所述噴淋盤固定連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的均流裝置,其特征在于:
所述卡合部件包括在所述第二連接部外側(cè)壁上沿周向均勻設(shè)置的至少兩個(gè)倒L形卡鉤,且所述卡鉤高于所述第二連接部的外側(cè)壁上表面,
以及在所述第一連接部外側(cè)壁上沿周向均勻設(shè)置的至少兩個(gè)與所述卡鉤形狀相配合的卡合槽,當(dāng)所述卡鉤卡合于所述卡合槽時(shí),所述卡鉤可在開啟位置和閉合位置間旋轉(zhuǎn),以使所述射頻蓋和所述噴淋盤開啟和閉合。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的均流裝置,其特征在于:
所述卡合槽內(nèi)設(shè)置有鋼珠彈簧鎖緊裝置,當(dāng)所述射頻蓋和所述噴淋盤卡合并旋轉(zhuǎn)至閉合位置后,所述鋼珠彈簧鎖緊裝置鎖緊所述射頻蓋和所述噴淋盤。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的均流裝置,其特征在于:所述第一連接部的下表面設(shè)置有環(huán)形凹槽,
所述第二連接部的上表面設(shè)置有與所述環(huán)形凹槽形狀相配合的環(huán)形凸臺(tái),
所述第二連接部的環(huán)形凸臺(tái)與所述第一連接部的環(huán)形凹槽插接,以形成迷宮式路徑。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的均流裝置,其特征在于:
所述環(huán)形凹槽的內(nèi)側(cè)壁設(shè)置有環(huán)形臺(tái)階面,且所述環(huán)形臺(tái)階面為至少一個(gè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的均流裝置,其特征在于:
所述環(huán)形凹槽的內(nèi)側(cè)壁設(shè)置有環(huán)形安裝槽,
所述均流裝置還設(shè)置有彈性體,所述彈性體設(shè)置在所述安裝槽內(nèi),且所述彈性體突出所述安裝槽。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的均流裝置,其特征在于:
所述環(huán)形凹槽的內(nèi)側(cè)壁設(shè)置有彈性體,所述彈性體和所述環(huán)形凹槽的內(nèi)側(cè)壁固定連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的均流裝置,其特征在于:
所述彈性體為高溫軟橡膠或軟金屬條。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的均流裝置,其特征在于:
當(dāng)所述彈性體為高溫軟橡膠時(shí),與彈性體同時(shí)設(shè)置有螺線管。
10.一種反應(yīng)腔室,其特征在于:包括如權(quán)利要求1-9中任意一項(xiàng)所述的均流裝置。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





