[發明專利]一種三維成型裝置及方法

有效

• 申請號: 201610090876.9
• 申請日: 2016-02-18
• 公開（公告）號: CN105619819B
• 公開（公告）日: 2017-12-29
• 發明（設計）人: 胡進;陳林森;浦東林;魏國軍;朱鵬飛;成堂東
• 申請（專利權）人: 蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司;蘇州大學
• 主分類號: B29C64/135
• 分類號: B29C64/135;B29C64/268;B29C64/245;B33Y30/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司11227
• 代理人: 常亮

1.一種基于基底層的三維成型裝置，其特征在于，包括基底層，以及：

基材成型機構，所述基材成型機構包括至少一個分離液噴射裝置及至少一個用于盛放感光材料的容置槽，所述容置槽中設有卷輥，所述卷輥可旋轉并于卷輥表面涂覆所述感光材料，所述分離液噴射裝置噴射分離液至所述基底層下方表面以形成分離型涂層，所述分離型涂層位于所述卷輥上方表面時被涂覆上所述感光材料以形成感光材料層，所述基底層、分離型涂層與感光材料層依次成型形成基材，所述基材被移動運輸；

曝光機構，包括激光器與光學鏡頭，所述曝光機構的曝光光斑穿過所述基底層，對所述感光材料層進行移動掃描曝光，實現零件的三維成型；

支撐機構，位于所述曝光機構的一側，在所述支撐機構上形成三維成型后的零件；

剝離機構，包括至少一個刮板，所述刮板位于所述支撐機構與所述分離液噴射裝置之間，用以剝離掉未曝光的感光材料層與分離型涂層。

2.如權利要求1所述的一種基于基底層的三維成型裝置，其特征在于：所述分離液噴射裝置包括用于盛放分離液的收容瓶及用于噴射分離液的驅動系統。

3.如權利要求2所述的一種基于基底層的三維成型裝置，其特征在于：所述支撐機構的兩側由近及遠分別各設一組依次排放的刮板、盛放分離液的收容瓶及盛放感光材料的容置槽，所述基底層沿第一方向及與第一方向相反的第二方向反復運輸。

4.如權利要求2所述的一種基于基底層的三維成型裝置，其特征在于：所述基底層為圓形，所述支撐機構的一側由近及遠依次設置刮板、盛放分離液的收容瓶及盛放感光材料的容置槽，所述基底層以其圓心為基點順時針或逆時針旋轉。

5.如權利要求1所述的一種基于基底層的三維成型裝置，其特征在于：所述曝光機構還包括至少一個壓板，位于所述基材的上表面，用于保持所述基材的均勻性。

6.如權利要求5所述的一種基于基底層的三維成型裝置，其特征在于：所述壓板的底部設有可自由旋轉的卷輥。

7.如權利要求1所述的一種基于基底層的三維成型裝置，其特征在于：所述基底層選用玻璃基板。

8.如權利要求1所述的一種基于基底層的三維成型裝置，其特征在于：所述分離型涂層的材料選用特氟龍或硅油，厚度≤0.2μm。

9.一種基于基底層的三維成型方法，其特征在于，所述三維成型方法包括以下步驟：

基材成型：基底層運輸至基材成型機構中的分離液噴射裝置上方被涂覆形成分離型涂層，再運至卷輥上方表面被涂覆形成感光材料層，所述基底層、分離型涂層與感光材料層依次成型形成基材，所述基材被移動運輸至支撐機構上方，支撐機構與所述感光材料層接觸；

曝光：曝光機構沿一個方向移動，曝光機構在掃描過程中，曝光光斑穿過基底層，對感光材料層進行曝光，在支撐機構上實現零件的三維成型；

剝離：三維成型后的零件運送至剝離機構，以剝離掉未曝光的感光材料層與分離型涂層；

其中，基材成型、曝光、剝離步驟依次進行或至少兩個步驟同時進行。

10.如權利要求9所述的一種基于基底層的三維成型方法，其特征在于：所述基材移動運輸至支撐機構上方時，支撐機構采用傾斜狀上移的方式，與所述感光材料層接觸。