[發明專利]發光元件,發光器件,電子器件和照明器件有效
| 申請號: | 201610090066.3 | 申請日: | 2011-03-30 |
| 公開(公告)號: | CN105742516B | 公開(公告)日: | 2018-06-08 |
| 發明(設計)人: | 能渡廣美;瀨尾哲史 | 申請(專利權)人: | 株式會社半導體能源研究所 |
| 主分類號: | H01L51/50 | 分類號: | H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 江磊 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 第三層 第一層 發光元件 陽極 堿金屬 陰極 電荷產生區域 電子傳輸性質 空穴傳輸性質 材料形成 電子器件 發光器件 受體物質 照明器件 注入勢壘 低電壓 酞菁 發光 驅動 | ||
1.一種發光元件,其包括:
位于陽極和陰極之間的n個EL層,n是大于或等于2的自然數;以及
從所述陽極計,介于第m個EL層和第(m+1)個EL層之間的第一層,第二層和第三層,m是大于或等于1且小于或等于(n-1)的自然數,
其中,所述第一層提供在所述第(m+1)個EL層和所述第二層之間,與所述第(m+1)個EL層以及所述第二層接觸,并且包含有機化合物和受體物質,
所述第二層提供在所述第一層和所述第三層之間,與所述第一層和所述第三層接觸,由基于酞菁的材料形成,
所述第二層還包含堿金屬、堿土金屬、稀土金屬、堿金屬化合物、堿土金屬化合物或稀土金屬化合物,
所述第三層提供在所述第二層和所述第m個EL層之間,與所述第二層和所述第m個EL層接觸,并且包含堿金屬、堿土金屬、稀土金屬、堿金屬化合物、堿土金屬化合物或稀土金屬化合物。
2.一種發光元件,其包括:
位于陽極和陰極之間的n個EL層,n是大于或等于2的自然數;以及
從所述陽極計,介于第m個EL層和第(m+1)個EL層之間的第一層,第二層和第三層,m是大于或等于1且小于或等于(n-1)的自然數,
其中,所述第一層提供在所述第(m+1)個EL層和所述第二層之間,與所述第(m+1)個EL層以及所述第二層接觸,并且包含有機化合物和受體物質,
所述第二層提供在所述第一層和所述第三層之間,與所述第一層和所述第三層接觸,由基于酞菁的材料形成,
所述第二層還包含堿金屬、堿土金屬、稀土金屬、堿金屬化合物、堿土金屬化合物或稀土金屬化合物,
所述第三層提供在所述第二層和所述第m個EL層之間,與所述第二層和所述第m個EL層接觸,且包含堿金屬、堿土金屬、稀土金屬、堿金屬化合物、堿土金屬化合物或稀土金屬化合物,并且
所述第一層具有包含所述有機化合物的層與包含所述受體物質的層的層疊結構。
3.如權利要求1或2所述的發光元件,
其特征在于,所述受體物質是氧化鉬。
4.一種發光元件,其包括:
位于陽極和陰極之間的n個EL層,n是大于或等于2的自然數;以及
從所述陽極計,介于第m個EL層和第(m+1)個EL層之間的第一層,第二層和第三層,m是大于或等于1且小于或等于(n-1)的自然數,
所述第一層提供在所述第(m+1)個EL層和所述第二層之間,與所述第(m+1)個EL層以及所述第二層接觸,并且包含有機化合物以及過渡金屬氧化物或者周期表第4-8族的任意金屬的氧化物,
所述第二層提供在所述第一層和所述第三層之間,與所述第一層和所述第三層接觸,由基于酞菁的材料形成,包含堿金屬、堿土金屬、稀土金屬、堿金屬化合物、堿土金屬化合物或稀土金屬化合物,
所述第三層提供在所述第二層和所述第m個EL層之間,與所述第二層和所述第m個EL層接觸,包含堿金屬、堿土金屬、稀土金屬、堿金屬化合物、堿土金屬化合物或稀土金屬化合物。
5.一種發光元件,其包括:
位于陽極和陰極之間的n個EL層,n是大于或等于2的自然數;以及
從所述陽極計,介于第m個EL層和第(m+1)個EL層之間的第一層,第二層和第三層,m是大于或等于1且小于或等于(n-1)的自然數,
所述第一層提供在所述第(m+1)個EL層和所述第二層之間,與所述第(m+1)個EL層以及所述第二層接觸,并且包含有機化合物以及過渡金屬氧化物或者周期表第4-8族的任意金屬的氧化物,
所述第二層提供在所述第一層和所述第三層之間,與所述第一層和所述第三層接觸,由基于酞菁的材料形成,包含堿金屬、堿土金屬、稀土金屬、堿金屬化合物、堿土金屬化合物或稀土金屬化合物,
所述第三層提供在所述第二層和所述第m個EL層之間,與所述第二層和所述第m個EL層接觸,包含堿金屬、堿土金屬、稀土金屬、堿金屬化合物、堿土金屬化合物或稀土金屬化合物,并且
所述第一層具有包含所述有機化合物的層與包含所述過渡金屬氧化物或者周期表第4-8族的任意金屬的氧化物的層的層疊結構。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社半導體能源研究所,未經株式會社半導體能源研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610090066.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





