[發明專利]物品缺陷檢測方法、圖像處理系統與計算機可讀記錄介質有效
| 申請號: | 201610088343.7 | 申請日: | 2016-02-17 |
| 公開(公告)號: | CN106920219B | 公開(公告)日: | 2020-02-04 |
| 發明(設計)人: | 簡澔宇;許展豪;應宗樺 | 申請(專利權)人: | 力晶積成電子制造股份有限公司 |
| 主分類號: | G06T5/00 | 分類號: | G06T5/00;G06T5/50;H01L21/66 |
| 代理公司: | 11105 北京市柳沈律師事務所 | 代理人: | 王珊珊 |
| 地址: | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 物品 缺陷 檢測 方法 圖像 處理 系統 計算機 可讀 記錄 介質 | ||
本發明提供一種物品缺陷檢測方法、圖像處理系統與計算機可讀記錄介質。此方法包括下列步驟。接收待測物品的測試圖像及參考圖像。取得測試圖像中的測試區塊,并且自參考圖像中取得對應的參考區塊,以分別產生測試區塊圖像及參考區塊圖像。將測試區塊圖像及參考區塊圖像分割為多個子區塊。再識別及濾除干擾的子區塊,以產生已濾除測試區塊圖像及已濾除參考區塊圖像,進而取得偏移校正參數,以校正測試圖像中的測試區塊,從而取得已校正測試區塊圖像。將已校正測試區塊圖像與參考區塊圖像進行比較,以取得待測物品對應于測試區塊的缺陷信息。
技術領域
本發明涉及一種物品缺陷檢測技術。
背景技術
計算機視覺以及圖像識別技術已廣泛地應用于工業生產以及傳統制造業以適應產業自動化以及精密化的需求,其借助于視覺圖像的處理程序,達到有效的質量管控,以改善過程以及降低制造成本。
舉例來說,在晶片的制造過程中,往往會因為設備、環境以及人為的因素而造成晶片表面缺陷。目前針對晶片表面缺陷進行檢測的方式主要是借助于圖像捕獲設備來獲取晶片表面的圖像,并將其與參考圖像(Reference Image)中的各個區塊來進行特征比較,從而取得晶片表面上的缺陷信息。現行方法主要是先利用兩個對應區塊的圖像相減得到的差值圖像(Difference Image),再比較差值圖像中的像素灰階值是否大于所設定的閾值來判定。然而,當獲取到的圖像產生色差、色偏、亮度不均或是噪聲干擾等情況時,會使得與參考圖像進行比較時,產生多余的假缺陷,還會導致無法與參考圖像準確地迭合進行比較。
發明內容
有鑒于此,本發明提供一種物品缺陷的檢測方法及其圖像處理系統與計算機可讀記錄介質,其可借助于圖像預處理程序(Image Pre-processing)來降低物品缺陷檢測的誤判率。
本發明提出一種物品缺陷檢測方法,適用于圖像處理系統,此方法包括下列步驟。首先,接收待測物品的測試圖像以及參考圖像。接著,取得測試圖像中的測試區塊,并且自參考圖像中取得對應于測試區塊的參考區塊,以分別產生測試區塊圖像以及參考區塊圖像。分別將測試區塊圖像以及參考區塊圖像分割為多個測試子區塊以及多個參考子區塊,其中各個測試子區塊對應于各個參考子區塊。之后,將上述測試子區塊與上述參考子區塊進行比較,以自上述測試子區塊以及上述參考子區塊中識別出任何干擾測試子區塊以及任何干擾參考子區塊,其中各個干擾測試子區塊不相似于任何干擾參考子區塊,各個干擾參考子區塊不相似于任何干擾測試子區塊。接著,自測試區塊圖像中濾除干擾測試子區塊以及對應于干擾參考子區塊的測試子區塊,以產生已濾除測試區塊圖像,并且自參考區塊圖像中濾除干擾參考子區塊以及對應于干擾測試子區塊的參考子區塊,以產生已濾除參考區塊圖像。之后,根據已濾除測試區塊圖像以及已濾除參考區塊圖像,取得偏移校正參數,再根據偏移校正參數,校正測試圖像中的測試區塊,以取得已校正測試區塊圖像。接著,將已校正測試區塊圖像與參考區塊圖像進行比較,據以取得待測物品中對應于測試區塊的缺陷信息。
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