[發明專利]一種高效研磨拋光加工裝置有效
| 申請號： | 201610084984.5 | 申請日： | 2016-02-15 |
| 公開（公告）號： | CN105643433B | 公開（公告）日： | 2018-11-06 |
| 發明（設計）人： | 張欣 | 申請（專利權）人： | 張欣 |
| 主分類號： | B24B37/28 | 分類號： | B24B37/28;B24B27/00;B24B47/12 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215163 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 高效 研磨 拋光 加工 裝置 | ||
1.一種高效研磨拋光加工裝置，其特征在于，包括：太陽輪、行星輪和內齒圈，其中所述太陽輪、所述行星輪和所述內齒圈三者中至少有一個為非圓齒輪，三者共同構成非圓行星輪機構；所述行星輪中開設有載物孔，工件置于所述行星輪的載物孔內，所述行星輪分別與所述太陽輪和所述內齒圈相嚙合；所述太陽輪的節曲線為高階橢圓、高次諧波曲線、橢圓形、正圓形中的一種，所述行星輪的節曲線為高階橢圓、高次諧波曲線、橢圓形、正圓形中的一種，所述內齒圈的節曲線為高階橢圓、高次諧波曲線、橢圓形、正圓形中的一種。
2.如權利要求1所述的高效研磨拋光加工裝置，其特征在于：還包括上研磨拋光盤、下研磨拋光盤，其中所述上研磨拋光盤、所述非圓行星輪機構、所述下研磨拋光盤三者自上而下平行設置，工件下表面與所述下研磨拋光盤接觸，所述上研磨拋光盤下壓于工件上表面。
3.如權利要求2所述的高效研磨拋光加工裝置，其特征在于：還包括加工液供給機構、驅動結構及控制單元。
4.如權利要求3所述的高效研磨拋光加工裝置，其特征在于：所述太陽輪節曲線為高階橢圓，階數為4，偏心率0.1052，中徑154.17mm，所述行星輪節曲線為正圓形，半徑為35.27mm。
5.如權利要求3所述的高效研磨拋光加工裝置，其特征在于：所述內齒圈節曲線為高次諧波曲線，階數為6，幅值系數0.0626，中徑534.13mm，所述行星輪節曲線為正圓形，半徑85mm。
6.如權利要求3所述的高效研磨拋光加工裝置，其特征在于：所述太陽輪節曲線為正圓形，半徑50mm，所述內齒圈節曲線為橢圓形，偏心率0.2736，中徑346.82mm，所述行星輪節曲線為正圓形，半徑63.14mm。
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