[發明專利]熱核聚變發生系統有效
| 申請號： | 201610083015.8 | 申請日： | 2016-02-06 |
| 公開（公告）號： | CN105575444B | 公開（公告）日： | 2017-11-07 |
| 發明（設計）人： | 劉杰;任國利;藍可 | 申請（專利權）人： | 北京應用物理與計算數學研究所 |
| 主分類號： | G21B1/00 | 分類號： | G21B1/00 |
| 代理公司： | 北京德琦知識產權代理有限公司11018 | 代理人： | 李莉麗,王琦 |
| 地址： | 100094*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 熱核 聚變 發生 方法 系統 | ||
1.一種熱核聚變發生系統，其特征在于，包括：一腔體和一激光發射裝置；其中，
所述腔體的內層包含熱核材料，且所述腔體上開有至少一個激光注入孔；
所述激光發射裝置用于通過所述激光注入孔向所述腔體注入激光，以燒蝕所述腔體的內層熱核材料，產生向所述腔體中心膨脹的冕區等離子體，且所述冕區等離子體在所述腔體中心匯聚，將等離子體動能轉化為等離子體的離子內能，形成高溫高密的匯聚等離子體，發生核聚變反應，釋放能量。
2.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述腔體為球形或近球形腔體。
3.根據權利要求2所述的系統，其特征在于，所述至少一個激光注入孔在所述腔體上對稱性的均勻分布。
4.根據權利要求3所述的系統，其特征在于，所述至少一個激光注入孔為2～12個激光注入孔。
5.根據權利要求4所述的系統，其特征在于，所述至少一個激光注入孔為：對應所述腔體一內接正四面體的頂點的四個激光注入孔；或者為：
對應所述腔體一內接正六面體的面中心的六個激光注入孔。
6.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述激光的激光強度小于1016W/cm2，激光脈寬在10皮秒至10納秒之間。
7.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述熱核材料包括下述材料中的任意一種或任意組合：氘、氚、鋰-6、氦-3。
8.根據權利要求1至7中任一項所述的系統，其特征在于，該系統進一步包括：磁場施加裝置和/或能量脈沖施加裝置；
所述磁場施加裝置用于在所述腔體內施加一用于保持等離子體狀態的約束磁場；
所述能量脈沖施加裝置用于向所述冕區等離子體和/或所述匯聚等離子體施加一能量脈沖。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京應用物理與計算數學研究所，未經北京應用物理與計算數學研究所許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610083015.8/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：用于產生醫用同位素的裝置和方法
- 下一篇：動態隨機存儲器的缺陷修復方法及電路
