[發(fā)明專利]多工作臺或多腔體檢測系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610082232.5
• 申請日: 2016-02-05
• 公開（公告）號: CN105702597B
• 公開（公告）日: 2019-03-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 馬衛(wèi)民;孫偉強(qiáng)
• 申請（專利權(quán)）人: 東方晶源微電子科技（北京）有限公司
• 主分類號: H01L21/66
• 分類號: H01L21/66
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 胡良均

1.一種電子束檢測系統(tǒng)，包括：

控制器；

第一檢測站，定位成接收樣品以便在其中進(jìn)行第一類型檢測；和

至少兩個第二檢測站，配置成執(zhí)行第二類型檢測，其中所述控制器被引起執(zhí)行控制模塊，所述控制模塊配置成當(dāng)樣品完成第一類型檢測時從至少兩個第二檢測站中確定一個第二檢測站，使得第一檢測站和第二檢測站之間的時間間斷最短并且檢測精度被逐步提高，

其中檢測系統(tǒng)包括總的N個檢測站，所述總的N個檢測站包括第一檢測站和至少兩個第二檢測站，在檢測系統(tǒng)中同時處理最大數(shù)量N個樣品。

2.如權(quán)利要求1所述的電子束檢測系統(tǒng)，其中控制模塊配置成接收來自第一檢測站的在樣品上的第一類型檢測結(jié)果，并且基于該結(jié)果確定一個第二檢測站。

3.如權(quán)利要求2所述的電子束檢測系統(tǒng)，其中控制模塊配置成當(dāng)看起來不需要進(jìn)一步檢測的時候引起樣品被推離進(jìn)一步的檢測。

4.如權(quán)利要求1所述的電子束檢測系統(tǒng)，其中樣品是晶片或掩模。

5.如權(quán)利要求1所述的電子束檢測系統(tǒng)，其中第一檢測站和至少兩個第二檢測站的至少一個是配備多鏡筒的電子束檢測模塊。

6.如權(quán)利要求5所述的電子束檢測系統(tǒng)，其中多個鏡筒被分成具有不同功能的多組，具有不同功能的多個鏡筒以控制器控制的時間次級工作。

7.如權(quán)利要求5所述的電子束檢測系統(tǒng)，其中多個鏡筒被設(shè)置不同的權(quán)重值，具有較高權(quán)重值的多個鏡筒主要用于掃描。

8.如權(quán)利要求5所述的電子束檢測系統(tǒng)，其中具有不同性能的多個鏡筒被指派不同的掃描任務(wù)或用于樣品的不同的關(guān)心區(qū)域。

9.如權(quán)利要求1所述的電子束檢測系統(tǒng)，其中第一檢測站和至少兩個第二檢測站的至少一個包括至少一個工作臺的腔體，該至少一個工作臺配置成用特定像素尺寸執(zhí)行一種類型的檢測。

10.如權(quán)利要求1所述的電子束檢測系統(tǒng)，還包括具有多個工作臺的腔體，所述多個工作臺的每一個配置成執(zhí)行一種類型檢測，其中第一檢測站和至少兩個第二檢測站的每一個是工作臺的一個。

11.一種電子束檢測系統(tǒng)，包括：

控制器；

第一組檢測站，配置成執(zhí)行第一類型檢測；

第二組檢測站，配置成執(zhí)行第二類型檢測；和

其中第一類型檢測使用預(yù)定像素尺寸檢測，第二類型檢測使用小于所述預(yù)定像素尺寸檢測，控制模塊通過控制器執(zhí)行并且配置成當(dāng)從第一組檢測站中的一個移動被檢測物品至第二組檢測站時，在不引起任何延遲的情況下確定第二組檢測站中沒有被占用的一個接收來自第一組檢測站的一個的被檢測物品，

其中電子束檢測系統(tǒng)包括總的N個檢測站，所述總的N個檢測站包括第一組檢測站和第二組檢測站，在電子束檢測系統(tǒng)中同時處理最大數(shù)量N個物品。

12.如權(quán)利要求11所述的電子束檢測系統(tǒng)，其中所述物品的每一個是晶片或掩模。

13.如權(quán)利要求11所述的電子束檢測系統(tǒng)，其中第一組檢測站和第二組檢測站的至少一個是基于使用多鏡筒的電子束檢測工具。

14.如權(quán)利要求13所述的電子束檢測系統(tǒng)，其中多個鏡筒被分成具有不同功能的多組，具有不同功能的多個鏡筒以控制器控制的時間次級工作。

15.如權(quán)利要求13所述的電子束檢測系統(tǒng)，其中多個鏡筒被設(shè)置不同權(quán)重值，具有較高權(quán)重值的多個鏡筒主要用于掃描。

16.如權(quán)利要求13所述的電子束檢測系統(tǒng)，其中具有不同性能的多個鏡筒被指派不同的掃描任務(wù)或用于樣品的不同的關(guān)心區(qū)域。