[發明專利]立體結構功能成像系統有效
| 申請號: | 201610081461.5 | 申請日: | 2016-02-05 |
| 公開(公告)號: | CN105748040B | 公開(公告)日: | 2018-08-28 |
| 發明(設計)人: | 廖洪恩;范應威 | 申請(專利權)人: | 清華大學 |
| 主分類號: | A61B5/00 | 分類號: | A61B5/00 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 張大威 |
| 地址: | 100084 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 立體 結構 功能 成像 系統 | ||
1.一種立體結構功能成像系統,其特征在于,包括:
頻域光相干斷層成像子系統,所述頻域光相干斷層子系統采用低相干光作為光源,并將所述光源通過偏振控制器后輸入到耦合器,通過所述耦合器分光到參考臂和樣品臂后返回到所述耦合器以形成相干光場,并采用光譜儀和CCD采集所述相干光場并在外部主機中存儲和顯示;
熒光成像及光譜分析子系統,所述熒光成像及光譜分析子系統具有多個可選光源,對所述多個可選光源的光路進行調節,得到預設功率的光源,并將所述預設功率的光源耦合到所述頻域光相干斷層成像子系統的樣品光路中;以及
前端掃描結構子系統,所述前端掃描結構子系統用于將所述熒光成像及光譜分析子系統的光源和所述頻域光相干斷層成像子系統的樣品光耦合到同一光路中,使用二維掃描振鏡對出射光掃描以形成二維結構的點陣圖像,并根據所述二維結構的點陣圖像構成包含表面熒光光譜信號和結構斷層立體圖像;
其中,所述熒光成像及光譜分析子系統具有第一至第四光源接口,所述第一至第四光源接口對應連接不同波長的第一至第四熒光激發光源,所述第一至第四熒光激發光源通過光纖與所述前端掃描結構子系統相連,其中,所述前端掃描結構子系統包括第一濾波器、第二濾波器、功率衰減器和熒光激發光接收單元,其中,所述第一濾波器與所述熒光激發光接收單元相連,用于高通所述熒光激發光源的光信號,高反所述頻域光相干斷層成像子系統的樣品反射光。
2.根據權利要求1所述的立體結構功能成像系統,其特征在于,所述立體圖像的大小由顯微鏡的放大倍率決定,所述立體圖像的表面圖像空間分辨率由所述顯微鏡的放大倍率和光斑尺寸決定,所述立體圖像的表面影像縱向分辨率由所述頻域光相干斷層成像子系統的光源相干長度決定。
3.根據權利要求1所述的立體結構功能成像系統,其特征在于,所述熒光成像及光譜分析子系統包括光電倍增管探測器和成像光譜儀,其中,
所述成像光譜儀用于將熒光信號通過光柵進行分光,并將分光后的熒光信號通過所述光電倍增管探測器傳輸到外部主機存儲和顯示。
4.根據權利要求1所述的立體結構功能成像系統,其特征在于,所述熒光激發光接收單元由光譜儀和光電倍增管探測器構成。
5.根據權利要求1所述的立體結構功能成像系統,其特征在于,所述樣品光經過光纖連接后直接到達所述前端掃描結構子系統,通過所述第二濾波器和所述第一濾波器之后連接到振鏡后經過掃描物鏡到達樣品,其中,所述第一濾波器高反所述頻域光相干斷層成像子系統的樣品光,高反所述熒光成像及光譜分析子系統的激發光,所述第二濾波器高通所述頻域光相干斷層成像子系統的光源,高反所述熒光成像及光譜分析子系統的光源光。
6.根據權利要求1所述的立體結構功能成像系統,其特征在于,所述頻域光相干斷層子系統的光源為帶寬光源,所述帶寬光源的中心波長為1310nm,所述帶寬光源的帶寬為60nm。
7.根據權利要求1所述的立體結構功能成像系統,其特征在于,所述耦合器的分光比為50:50,所述耦合器將所述光源的信號分為參考光和樣品光。
8.根據權利要求5所述的立體結構功能成像系統,其特征在于,所述前端掃描結構子系統由單維或者二維振鏡系統構成。
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