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[發(fā)明專利]一種基于光學(xué)膠轉(zhuǎn)移技術(shù)制作石墨烯電容式觸摸屏的方法在審

專利信息
申請?zhí)枺?/td> 201610080449.2 申請日: 2016-02-04
公開(公告)號: CN107037934A 公開(公告)日: 2017-08-11
發(fā)明(設(shè)計(jì))人: 馬來鵬;任文才;成會(huì)明 申請(專利權(quán))人: 中國科學(xué)院金屬研究所
主分類號: G06F3/044 分類號: G06F3/044
代理公司: 沈陽優(yōu)普達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙)21234 代理人: 張志偉
地址: 110016 遼*** 國省代碼: 遼寧;21
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摘要:
搜索關(guān)鍵詞: 一種 基于 光學(xué) 轉(zhuǎn)移 技術(shù) 制作 石墨 電容 觸摸屏 方法
【權(quán)利要求書】:

1.一種基于光學(xué)膠轉(zhuǎn)移技術(shù)制作石墨烯電容式觸摸屏的方法,其特征在于:所述觸摸屏的主體由蓋板、光學(xué)膠、石墨烯透明導(dǎo)電薄膜和基材構(gòu)成,該方法利用觸摸屏中的光學(xué)膠作為石墨烯的轉(zhuǎn)移介質(zhì),首先在初始基體表面形成石墨烯,再將光學(xué)膠膜結(jié)合到石墨烯的表面,分離石墨烯與初始基體后獲得以光學(xué)膠膜作為基材的石墨烯透明導(dǎo)電薄膜;對石墨烯透明導(dǎo)電薄膜進(jìn)行圖形化、制作導(dǎo)線和壓合FPC加工后直接與蓋板貼合,從而完成觸摸屏的制作。

2.按照權(quán)利要求1所述的基于光學(xué)膠轉(zhuǎn)移技術(shù)制作石墨烯電容式觸摸屏的方法,其特征在于:位于初始基體的石墨烯的平均層數(shù)為單層,少層或多層,層數(shù)為10層以下。

3.按照權(quán)利要求1所述的基于光學(xué)膠轉(zhuǎn)移技術(shù)制作石墨烯電容式觸摸屏的方法,其特征在于:石墨烯為采用化學(xué)氣相沉積方法生長的石墨烯或析出方法生長的石墨烯。

4.按照權(quán)利要求1所述的基于光學(xué)膠轉(zhuǎn)移技術(shù)制作石墨烯電容式觸摸屏的方法,其特征在于:采用的光學(xué)膠為電容式觸摸屏中使用的光學(xué)膠OCA薄膜。

5.按照權(quán)利要求1所述的基于光學(xué)膠轉(zhuǎn)移技術(shù)制作石墨烯電容式觸摸屏的方法,其特征在于:將石墨烯與初始基體分離的方法為蝕刻基體法、鼓泡剝離法或機(jī)械剝離法。

6.按照權(quán)利要求1所述的基于光學(xué)膠轉(zhuǎn)移技術(shù)制作石墨烯電容式觸摸屏的方法,其特征在于:根據(jù)需要使用兩層以上的石墨烯透明導(dǎo)電薄膜,重復(fù)操作直到獲得相應(yīng)層數(shù)的石墨烯透明導(dǎo)電薄膜。

7.按照權(quán)利要求1所述的基于光學(xué)膠轉(zhuǎn)移技術(shù)制作石墨烯電容式觸摸屏的方法,其特征在于:對石墨烯透明導(dǎo)電薄膜進(jìn)行圖形化加工的方法為激光蝕刻法、等離子體蝕刻法或氧化法。

8.按照權(quán)利要求1所述的基于光學(xué)膠轉(zhuǎn)移技術(shù)制作石墨烯電容式觸摸屏的方法,其特征在于:所形成的圖形化石墨烯透明導(dǎo)電膜包括導(dǎo)線部分,導(dǎo)線部分的材料為銀、銅、銅鎳合金或鉬鋁合金,導(dǎo)線部分的制作方法為印刷工藝、光刻工藝或激光蝕刻工藝。

9.按照權(quán)利要求1所述的基于光學(xué)膠轉(zhuǎn)移技術(shù)制作石墨烯電容式觸摸屏的方法,其特征在于:蓋板材料為玻璃、聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA、或聚對苯二甲酸乙二醇酯PET。

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