[發明專利]一種適合于光刻機復位用的對準方法及裝置

有效

• 申請號: 201610078902.6
• 申請日: 2016-02-04
• 公開（公告）號: CN105607433B
• 公開（公告）日: 2018-10-26
• 發明（設計）人: 戴宜全;桂成群;劉勝;雷金
• 申請（專利權）人: 武漢大學
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00;G02B5/30
• 代理公司: 武漢科皓知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 42222
• 代理人: 趙麗影

1.一種適合于光刻機復位用的對準方法，其特征在于：采用兩片透射散斑特征相同的兩個玻片分別固定于相對運動的兩個待配準部件，如果兩個玻片的位置完全重合，則透射光是最強的，并可以該光的最大值作為配準完成的判據；但當配準精度要求更高時，兩個玻片將需要非常接近，甚至相互接觸而擦傷玻片，為此，進一步利用菲涅爾透鏡或1：1的成像鏡頭將其中一玻片成像后與另一玻片進行對準比較，從而避免玻片過于接近造成的擦傷；

具體包括：兩塊有相同透光率散斑分布的散斑玻片、光電探頭、準直光源；兩片散斑玻片平行放置，兩片散斑玻片位于準直光源與光電探頭之間，準直光源的光垂直照射在其中一個玻片，使得光垂直通過兩個玻片，光電探頭從另一玻片外側對透過兩玻片后的光進行探測；

所述兩片散斑玻片中間放置有菲涅爾透鏡或1：1的成像鏡頭；

所述的兩片散斑玻片中，一個玻片及準直光源通過支架一固定在一起；將另一個玻片及光電探頭通過支架二固定在一起；菲涅爾透鏡或1：1的成像鏡頭固定在支架一或者支架二上；所述支架一和支架二根據待對準應用的需要進行設計，起到固定作用；

所述兩塊散斑玻片為同規格、同散斑規律分布；兩片散斑玻片面與面間平行放置，其間距根據散斑顆粒統計尺寸的衍射效應進行調整，避免光從其中一個玻片穿過后到達另一玻片時有過大的衍射效應，滿足阿貝距離條件；該距離由固定支架與待對準系統的配合來實現；其制作方法是，將符合散斑顆粒尺寸統計規律的散斑制作于毛玻璃，再以毛玻璃作為母板進行光刻得到所述兩塊散斑玻片；

散斑尺寸大小統計分布具有連續性且符合近似高斯分布；平均尺寸根據探測精度要求和探頭的靈敏度進行設計；所述散斑的透過率、透過光強分布所組成的整體信息熵遠超過二維光柵的信息熵，相應的就是，其兩玻片間相互比較的信息更多更豐富，從而實現更高精度的對準；但其加工方法則比光柵容易的多；而且當散斑尺寸和透光率分布設計合理時，可以在遠超過相應光柵周期的對準差距時就已經明確該如何移動；即其透過雙玻片后的光強隨玻片間錯位量的分布更加合理且可調；

當對準精度要求較高的情況下，兩玻片面中間需要放置菲涅爾透鏡或1：1成像鏡頭，其目的是為了將其中一個玻片的像與另一個玻片進行對準比較，這樣可以避免了兩玻片間距過小才能滿足阿貝距離條件，而間距過小則其在相對運動中容易擦傷玻片；另外，采用此轉像的方法也適用于光柵對準的方案，高密光柵對準一樣存在面間距過小的問題，采用該方法可進一步大幅提高對準精度；

所述的光電探頭為光電二級管或CCD攝像頭或COMS攝像頭；主要用于探測透光兩玻片后的光強變化信號。