[發明專利]一種調控紅色PS膠體晶體膜飽和度的方法在審
| 申請號： | 201610078045.X | 申請日： | 2016-02-03 |
| 公開（公告）號： | CN105694086A | 公開（公告）日： | 2016-06-22 |
| 發明（設計）人： | 王莉麗;王秀鋒;宮在磊;于成龍;江紅濤 | 申請（專利權）人： | 陜西科技大學 |
| 主分類號： | C08J7/06 | 分類號： | C08J7/06;C08J7/04;C08J5/18;C08L25/06 |
| 代理公司： | 西安智大知識產權代理事務所 61215 | 代理人： | 段俊濤 |
| 地址： | 710021 陜西省*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 調控 紅色 ps 膠體 晶體 飽和度 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種調控紅色PS膠體晶體膜飽和度的方法，其特征在于，包括如下 步驟：
(1)采用乳液聚合法制備平均粒徑為440±10nm的PS微球母液，以去 離子水為溶劑，將其稀釋為PS微球濃度為0.1-0.5wt％的乳液，置于玻璃器 皿中超聲分散30-60min；
(2)用去離子水清洗基片，然后分別在乙醇和去離子水中超聲清洗 30-90min后烘干備用，將清洗過的基片垂直固定在已超聲分散的PS乳液中， 放入烘箱中9-12h，烘干溫度為40℃-65℃，緩慢烘干得到組裝好的PS膠體 晶體膜；
(3)將從烘箱中取出的PS膠體晶體膜放入蒸鍍儀中鍍碳膜，設置鍍膜 電流為60mA，通過碳絲的粗細來調整碳膜的厚度，使PS膠體晶體膜表面的 碳膜厚度在5-25nm之間。
2.根據權利要求1所述調控紅色PS膠體晶體膜飽和度的方法，其特征 在于，所述基片為玻璃基片、金屬基片或有機基片。
3.根據權利要求1所述調控紅色PS膠體晶體膜飽和度的方法，其特征 在于，通過定量改變碳膜的厚度來實現對紅色PS膠體晶體膜色飽和度的調 控。
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