[發明專利]支撐桿與應用此支撐桿的蝕刻設備

在審

• 申請號: 201610077664.7
• 申請日: 2016-02-03
• 公開（公告）號: CN107037615A
• 公開（公告）日: 2017-08-11
• 發明（設計）人: 鄭宏祥;許文宏
• 申請（專利權）人: 南京瀚宇彩欣科技有限責任公司;瀚宇彩晶股份有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13
• 代理公司: 北京中譽威圣知識產權代理有限公司11279
• 代理人: 王正茂,叢芳

1.一種蝕刻設備的支撐桿，其特征在于，所述蝕刻設備的支撐桿包含：

第一部分，其連接至控制裝置，以使所述控制裝置控制所述支撐桿的移動；

第二部分，其用以支撐玻璃基板，其中所述第二部分的材質為工程塑膠；以及

第三部分，其位于所述第一部分與所述第二部分之間，其中所述第三部分的材質為陶瓷材料。

2.如權利要求1所述的蝕刻設備的支撐桿，其特征在于，所述工程塑膠為聚酰亞胺。

3.如權利要求1所述的蝕刻設備的支撐桿，其特征在于，所述第一部分的材質為金屬。

4.如權利要求1所述的蝕刻設備的支撐桿，其特征在于，所述第三部分用以在所述支撐桿受到撞擊時提供潰縮機制。

5.如權利要求4所述的蝕刻設備的支撐桿，其特征在于，所述第三部分的材質為氧化鋯。

6.一種蝕刻設備，用以蝕刻玻璃基板，其特征在于，所述蝕刻設備包含：

蝕刻氣體供應裝置，其用以提供蝕刻氣體；

電極裝置，其用以離子化所述蝕刻氣體，所述電極裝置包含:

下電極部，其具有多個貫穿孔；以及

上電極部，其對應設置于所述下電極部上方；以及

多個支撐桿，其穿設于所述多個貫穿孔中，以支撐所述玻璃基板，使所述玻璃基板位于所述上電極部與所述下電極部之間，其中每個所述支撐桿包 含：

第一部分，其連接至控制裝置，以使所述控制裝置控制所述支撐桿的移動；

第二部分，其用以支撐玻璃基板，其中所述第二部分的材質為工程塑膠；以及

第三部分，其位于所述第一部分與所述第二部分之間，其中所述第三部分的材質為陶瓷材料。

7.如權利要求6所述的蝕刻設備，其特征在于，所述第一部分的材質為金屬。

8.如權利要求6所述的蝕刻設備，其特征在于，所述第三部分用以在所述支撐桿受到撞擊時提供潰縮機制。

9.如權利要求8所述的蝕刻設備，其特征在于，所述第三部分的材質為氧化鋯。

10.如權利要求6所述的蝕刻設備，其特征在于，所述玻璃基板具有可視區域，所述可視區域對應至所述下電極部的輔助支撐區域，所述多個貫穿孔的至少一個位于所述輔助支撐區域中。