[發明專利]一種光刻裝置及光刻方法、顯示基板的制作方法

在審

• 申請號: 201610077559.3
• 申請日: 2016-02-03
• 公開（公告）號: CN105549337A
• 公開（公告）日: 2016-05-04
• 發明（設計）人: 袁洪光;胡巖;張宇;趙吾陽;陸忠;熊黎;傅永義;張文軒;范真瑞
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種光刻裝置及光刻方法、顯示基 板的制作方法。

背景技術

目前，在顯示基板制作過程中一般采用陣列工藝在襯底基板上形成圖案 化陣列，從而得到顯示基板；這些顯示基板種類比較多，例如常見的薄膜晶 體管陣列基板、有機發光二極管陣列基板或低溫多晶硅陣列基板等。

而顯示基板中每層膜層在具體制作時，一般包括成膜步驟、涂膠步驟、 光刻步驟、顯影步驟以及刻蝕步驟，即先利用成膜步驟先形成一層薄膜，然 后利用涂膠步驟在該薄膜上涂布光刻膠，以形成涂膠層，并在光刻步驟中利 用曝光機和掩膜板對涂膠層進行光刻，使涂膠層中曝光的部分發生變性，接 著在顯影步驟中通過顯影液對光刻后的涂膠層進行顯影，以除去涂膠層中發 生變性的部分，使涂膠層圖案化，形成光刻膠陣列；最后利用刻蝕工藝刻蝕 薄膜，使薄膜圖案化，形成與光刻膠陣列一致的薄膜陣列。

但是，由于不同型號的顯示基板或同一型號的顯示基板中各層薄膜陣列 的圖案有著明顯的差異，因此，光刻步驟中利用曝光機和掩膜板對涂膠層進 行光刻時，必須更換相應圖案的掩膜板，才能形成對應尺寸和圖案的薄膜陣 列；而且，由于在光刻步驟后，還必須經過顯影步驟才能得到光刻膠陣列， 因此，顯示基板的制作過程比較復雜，且在顯影步驟中還要使用大量顯影液， 以適應不同型號的顯示基板中不同膜層的制作。另外，現有的光刻裝置用于 顯示面板中的顯示基板制作時顯示面板的解像度比較差，難以適應高分辨率 的顯示面板對顯示基板的要求。

發明內容

本發明的目的在于提供一種光刻裝置及光刻方法、顯示基板的制作方法， 以在簡化顯示基板制作過程的前提下，使得光刻裝置用于顯示面板中的顯示 基板制作時，提高顯示面板的最小解像精度。

為了實現上述目的，本發明提供如下技術方案：

一種光刻裝置，包括激光發生單元、光線控制單元以及光線校正單元；

所述激光發生單元用于發射激光束；

所述光線控制單元用于按照目標圖案改變激光束的傳播方向，獲取可控 激光束；

所述光線校正單元用于將所述可控激光束校正成用于對目標層進行光刻 的光刻激光束。

優選的，所述光線控制單元包括圖案控制模塊以及與所述圖案控制模塊 的輸出端相連的光線方向調節模塊；

所述圖案控制模塊用于生成所述目標圖案，根據所述目標圖案設定光線 調節方法；

所述光線方向調節模塊用于根據所述光線調節方法調節所述激光束，使 所述激光束的傳播方向改變，獲取到所述可控激光束。

較佳的，所述光線方向調節模塊為傾斜反射鏡，所述圖案控制模塊的輸 出端與所述傾斜反射鏡的驅動端相連。

優選的，所述光線校正單元包括反射棱鏡和平行光透鏡；

所述反射棱鏡用于將所述可控激光束反射至所述平行光透鏡，可控激光 束穿過所述平行光透鏡，以使所述可控激光束校正成所述光刻激光束。

優選的，所述光刻激光束與所述目標層的表面垂直。

優選的，所述光刻裝置的數目為多個，每個所述光刻裝置中的激光發生 單元分別與掃描控制單元相連；

所述掃描控制單元用于根據所述激光發生單元的視域范圍和激光發生單 元的數目，獲取每個所述激光發生器的掃描次數，以控制所述激光發生單元 的掃描次數。

本發明還提供一種光刻方法，使用上述技術方案所述的光刻裝置對目標 層進行光刻，包括：

激光發生單元發射激光束；

光線控制單元按照目標圖案改變激光束的傳播方向，獲取可控激光束；

光線校正單元將所述可控激光束校正成光刻激光束；

所述光刻激光束對目標層進行光刻，使目標層圖案化。

優選的，所述光刻裝置中的光線控制單元包括圖案控制模塊以及與所述 圖案控制模塊的輸出端相連的光線方向調節模塊；

所述光線控制單元按照目標圖案改變激光束的傳播方向的方法為：

所述圖案控制模塊生成所述目標圖案，根據所述目標圖案設定光線調節 方法；

所述光線方向調節模塊根據所述光線調節方法調節所述激光束，使所述 激光束的傳播方向改變，獲取到所述可控激光束。

較佳的，所述光線調節方法包括不同掃描方向下的光線調節方法；