[發明專利]一種細長型釹鐵硼磁體的電鍍用掛具及其電鍍方法

有效

• 申請號: 201610076914.5
• 申請日: 2016-02-03
• 公開（公告）號: CN105696060B
• 公開（公告）日: 2018-06-26
• 發明（設計）人: 陳國;曹立斌;陶勤飛;余衍煉
• 申請（專利權）人: 寧波韻升股份有限公司;寧波韻升磁體元件技術有限公司;寧波韻升特種金屬材料有限公司
• 主分類號: C25D17/06
• 分類號: C25D17/06;C25D5/14;C25D5/16;C25D3/12;C25D3/38;C25D5/36;C25D7/00
• 代理公司: 寧波奧圣專利代理事務所(普通合伙) 33226
• 代理人: 方小惠

1.一種細長型釹鐵硼磁體的電鍍用掛具，包括掛架和設置在所述的掛架上的至少一個懸吊機構，其特征在于所述的懸吊機構包括固定設置在所述的掛架上的懸吊架和安裝在所述的懸吊架上的多個懸吊座，所述的懸吊座包括座體和用于將細長型釹鐵硼磁體限定在所述的座體內的擋塊，所述的座體由單根不銹鋼絲拉成內孔為圓柱形的螺旋狀，所述的擋塊固定設置在所述的座體的底部開口處，所述的座體的內孔直徑比所述的細長型釹鐵硼磁體的寬度大5～20mm，所述的座體的高度比所述的細長型釹鐵硼磁體的長度小10～15mm；

所述的掛架包括兩根間隔設置的豎桿和兩個掛鉤，兩個掛鉤一一對應設置在兩根所述的豎桿頂部，所述的懸吊架包括兩根間隔設置的橫桿，所述的兩根橫桿的兩端分別與兩根所述的豎桿固定連接，每個所述的懸吊機構中的座體位于兩根所述的橫桿之間且分別與兩根所述的橫桿固定連接，所述的座體的內孔軸線與所述的豎桿的夾角為30～60度。

2.一種細長型釹鐵硼磁體的電鍍方法，其特征在于包括以下步驟：

①將細長型釹鐵硼磁體裝入電鍍用掛具中，所述的電鍍用掛具包括掛架和設置在所述的掛架上的至少一個懸吊機構，所述的懸吊機構包括固定設置在所述的掛架上的懸吊架和安裝在所述的懸吊架上的多個懸吊座，所述的懸吊座包括座體和用于將細長型釹鐵硼磁體限定在所述的座體內的擋塊，所述的座體由單根不銹鋼絲拉成內孔為圓柱形的螺旋狀，所述的擋塊固定設置在所述的座體的底部開口處，所述的座體的內孔直徑比所述的細長型釹鐵硼磁體的寬度大5～20mm，所述的座體的高度比所述的細長型釹鐵硼磁體的長度小10～15mm，所述的細長型釹鐵硼磁體的長度方向與所述的座體的高度方向保持一致插入所述的座體內；

②對細長型釹鐵硼磁體進行電鍍前處理：將裝有細長型釹鐵硼磁體的電鍍用掛具依次放入除油槽內進行除油處理、除銹槽內進行除銹處理和活化槽內進行活化處理，在除油處理、除銹處理和活化處理過程中使所述的電鍍用掛具上下跳動；

③對細長型釹鐵硼磁體進行第一次電鍍處理：將裝有細長型釹鐵硼磁體的電鍍用掛具放入第一電鍍池內對細長型釹鐵硼磁體進行首次電鍍鎳處理，鍍層厚度為2～10μm；

④對細長型釹鐵硼磁體進行第二次電鍍處理：將裝有細長型釹鐵硼磁體的電鍍用掛具放入第二電鍍池內對細長型釹鐵硼磁體進行電鍍銅處理，鍍層厚度為2～10μm；

⑤對細長型釹鐵硼磁體進行第三次電鍍處理：將裝有細長型釹鐵硼磁體的電鍍用掛具放入第三電鍍池內對細長型釹鐵硼磁體進行再次電鍍鎳處理，鍍層厚度為3～15μm；

所述的掛架包括兩根間隔設置的豎桿和兩個掛鉤，兩個掛鉤一一對應設置在兩根所述的豎桿頂部，所述的懸吊架包括兩根間隔設置的橫桿，所述的兩根橫桿的兩端分別與兩根所述的豎桿固定連接，每個所述的懸吊機構中的座體位于兩根所述的橫桿之間且分別與兩根所述的橫桿固定連接，所述的座體的內孔軸線與所述的豎桿的夾角為30～60度。

3.根據權利要求2所述的一種細長型釹鐵硼磁體的電鍍方法，其特征在于所述的第一次電鍍處理過程中使用的電鍍溶液為第一硫酸鎳溶液，所述的第一硫酸鎳溶液由硫酸鎳、氯化鎳、硼酸和水混合而成，其中硫酸鎳的濃度為200～400g/L，氯化鎳的濃度為20～70g/L，硼酸的濃度為20～70g/L，所述的第一硫酸鎳溶液的PH為3.5～5.0，溫度為40～60℃。

4.根據權利要求2所述的一種細長型釹鐵硼磁體的電鍍方法，其特征在于所述的第二次電鍍處理過程中使用的電鍍溶液為焦磷酸銅溶液，所述的焦磷酸銅溶液由焦磷酸鉀、焦磷酸銅和水混合而成，其中焦磷酸鉀的濃度為200～400g/L，焦磷酸銅的濃度為20～70g/L，所述的焦磷酸銅溶液的PH為7.5～9.0，溫度為30～50℃。

5.根據權利要求2所述的一種細長型釹鐵硼磁體的電鍍方法，其特征在于所述的第三次電鍍處理處理過程中使用的電鍍溶液為第二硫酸鎳溶液，所述的第二硫酸鎳溶液由硫酸鎳、氯化鎳、硼酸和水混合而成，其中硫酸鎳的濃度為150～350g/L，氯化鎳的濃度為20～70g/L，硼酸的濃度為20～70g/L，所述的第二硫酸鎳溶液的PH為3.5～5.0，溫度為40～60℃。