[發(fā)明專利]一種鋁面低壓平面式MOS肖特基二極管有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610075444.0 | 申請(qǐng)日: | 2016-02-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105514177B | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-07-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃仲濬;蔣文甄 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 泰州市夢(mèng)之谷科技發(fā)展有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/872 | 分類號(hào): | H01L29/872 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 225500 江蘇省泰*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 肖特基二極管 硅片層 導(dǎo)電 填充 空心棒 鋁面 陰極 二氧化硅層 陰極金屬層 陽(yáng)極管腳 平面式 管腳 反向耐壓 運(yùn)輸過(guò)程 漏電流 橡膠塞 折斷 彈出 減小 折彎 去除 耗盡 | ||
本發(fā)明提供了一種鋁面低壓平面式MOS肖特基二極管,所述鋁面肖特基二極管包括硅片層、陰極金屬層、二氧化硅層、導(dǎo)電填充塊和P型阱區(qū),所述硅片層上方連接所述二氧化硅層,所述硅片層下方連接所述陰極金屬層,所述硅片層內(nèi)部設(shè)有多個(gè)導(dǎo)電填充塊,所述導(dǎo)電填充塊外側(cè)包裹有所述P型阱區(qū),P型阱區(qū)包裹的導(dǎo)電填充塊能在器件反向耐壓時(shí)形成有效耗盡,從而減小漏電流,所述肖特基二極管的陰極和陽(yáng)極管腳分別設(shè)于空心棒內(nèi),使用時(shí),將空心棒口的橡膠塞去除,陰極和陽(yáng)極管腳會(huì)從空心棒彈出,這種結(jié)構(gòu)能在運(yùn)輸過(guò)程中有效的保護(hù)管腳,防止管腳折斷或折彎。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及二極管,特別涉及一種鋁面低壓平面式MOS肖特基二極管。
背景技術(shù)
肖特基二極管,又稱肖特基勢(shì)壘二極管,它屬一種低功耗、超高速半導(dǎo)體器件。最顯著的特點(diǎn)為反向恢復(fù)時(shí)間極短,正向?qū)▔航祪H0.4V左右。其多用作高頻、低壓、大電流整流二極管、續(xù)流二極管、保護(hù)二極管,也有用在微波通信等電路中作整流二極管、小信號(hào)檢波二極管使用。在通信電源、變頻器等中比較常見(jiàn)。傳統(tǒng)的肖特基二極管,隨著器件反偏電壓的增加,在高電場(chǎng)條件下肖特基勢(shì)壘降低,從而導(dǎo)致二極管漏電流的增大,而且傳統(tǒng)的肖特基二極管的管腳較長(zhǎng),在運(yùn)輸過(guò)程中容易折斷或折彎。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種鋁面低壓平面式MOS肖特基二極管,解決了傳統(tǒng)的肖特基二極管,隨著器件反偏電壓的增加,在高電場(chǎng)條件下肖特基勢(shì)壘降低,從而導(dǎo)致二極管漏電流的增大,而且傳統(tǒng)的肖特基二極管的管腳較長(zhǎng),在運(yùn)輸過(guò)程中容易折斷或折彎。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供以下的技術(shù)方案:一種鋁面低壓平面式MOS肖特基二極管,其中,所述鋁面肖特基二極管包括硅片層、陰極金屬層、二氧化硅層、導(dǎo)電填充塊和P型阱區(qū),所述硅片層上方連接所述二氧化硅層,所述硅片層下方連接所述陰極金屬層,所述硅片層內(nèi)部設(shè)有多個(gè)導(dǎo)電填充塊,所述導(dǎo)電填充塊外側(cè)包裹有所述P型阱區(qū),所述二氧化硅層上設(shè)有空心陽(yáng)極棒,所述空心陽(yáng)極棒至少部分與所述硅片層連接,所述空心陽(yáng)極棒內(nèi)設(shè)有第一管腳,所述第一管腳的一端通過(guò)第一彈簧連接所述空心陽(yáng)極棒的內(nèi)壁,所述陰極金屬層上連接有陰極空心棒,所述空心陰極棒內(nèi)設(shè)有第二管腳,所述第二管腳的一端通過(guò)第二彈簧連接所述空心陰極棒的內(nèi)壁。
優(yōu)選的,所述空心陽(yáng)極棒和所述陰極空心棒都為一端設(shè)有開(kāi)口且另一端封閉的結(jié)構(gòu),且所述開(kāi)口塞有橡膠塞。
優(yōu)選的,所述導(dǎo)電填充塊的數(shù)量為2-4個(gè)。
優(yōu)選的,所述導(dǎo)電填充塊在所述硅片層內(nèi)等距分布。
優(yōu)選的,所述導(dǎo)電填充塊為多晶硅。
有益效果:本發(fā)明提供了一種鋁面低壓平面式MOS肖特基二極管,所述鋁面肖特基二極管包括硅片層、陰極金屬層、二氧化硅層、導(dǎo)電填充塊和P型阱區(qū),所述硅片層上方連接所述二氧化硅層,所述硅片層下方連接所述陰極金屬層,所述硅片層內(nèi)部設(shè)有多個(gè)導(dǎo)電填充塊,所述導(dǎo)電填充塊外側(cè)包裹有所述P型阱區(qū),P型阱區(qū)包裹的導(dǎo)電填充塊能在器件反向耐壓時(shí)形成有效耗盡,從而減小漏電流,所述肖特基二極管的陰極和陽(yáng)極管腳分別設(shè)于空心棒內(nèi),使用時(shí),將空心棒口的橡膠塞去除,陰極和陽(yáng)極管腳會(huì)從空心棒彈出,這種結(jié)構(gòu)能在運(yùn)輸過(guò)程中有效的保護(hù)管腳,防止管腳折斷或折彎。
附圖說(shuō)明
圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本發(fā)明的工作時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖。
其中,1硅片層、2二氧化硅層、3第一彈簧、4第一管腳、5空心陽(yáng)極棒、6橡膠塞、7P型阱區(qū)、8導(dǎo)電填充塊、31第二彈簧、41第二管腳、51空心陰極棒。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門(mén)適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的
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